[发明专利]一种双激光抛光系统及复合激光抛光方法

权利要求书

1.一种双激光抛光系统，其特征在于，包括：机架、转动设于所述机架上的旋转工作台和光路结构，所述旋转工作台用于供工件放置；

所述光路结构包括：发出第一光束的第一激光器、发出第二光束的第二激光器、连接所述机架的加工头以及光路切换机构；所述加工头位于所述工件上方且配置为抛光所述工件，所述光路切换机构具有第一位置状态和第二位置状态；

其中，所述光路切换机构处于所述第一位置状态时，所述光路切换机构将所述第一光束入射所述加工头；而所述光路切换机构处于所述第二位置状态时，所述光路切换机构将所述第二光束入射所述加工头。

2.如权利要求1所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述光路结构还包括设置于所述第一光束的传播路径，且配置为将所述第一光束分离成多束的分束器。

3.如权利要求1所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述光路结构还包括设置于所述第二光束的传播路径，且配置为压缩所述第二光束的展宽压缩器。

4.如权利要求1所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述光路结构还包括扩束镜，所述第一光束和所述第二光束的传播路径均设置有所述扩束镜。

5.如权利要求1-4任意一项所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述加工头包括振镜以及远心扫描透镜，所述第一光束或所述第二光束入射所述振镜，并从所述远心扫描透镜出射。

6.如权利要求1-4任意一项所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述双激光抛光系统还包括设于所述机架上的焦距调节机构，所述加工头和所述光路切换机构均设于所述焦距调节机构，所述焦距调解机构可带动所述加工头靠近或远离所述旋转工作台，以调整所述第一光束或所述第二光束聚焦到所述工件上的焦距。

7.如权利要求6所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述焦距调节机构包括立柱、滑动连接所述立柱的横梁以及设于所述立柱且配置为驱动所述横梁上下滑动的驱动器，所述立柱与所述机架固接，所述加工头和所述光路切换机构均连接所述横梁。

8.如权利要求1-4任意一项所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述双激光抛光系统还包括设于所述机架上的气路系统，所述气路系统包括：储气罐和惰性气体密封舱，所述储气罐与所述惰性气体密封舱通过输气管相连通，所述惰性气体密封舱设于所述旋转工作台上；所述气路系统用于为工件表面提供惰性气体。

9.如权利要求1-4任意一项所述的双激光抛光系统，其特征在于：所述双激光抛光系统还包括控制器，所述控制器设于所述机架上，所述控制器连接并控制所述光路结构。

10.一种复合激光抛光方法，其用于权利要求1-9任一项所述的双激光抛光系统，其特征在于，所述复合激光抛光方法包括如下步骤：

将工件安装至所述旋转工作台，所述旋转工作台转动连接机架；

将所述光路切换机构处于第一位置状态，所述第一激光器朝所述光路切换机构发射第一光束，所述光路切换机构将所述第一光束反射至所述加工头，且所述加工头沿预定路径抛光所述工件；

将所述光路切换机构处于第二位置状态，所述第二激光器朝所述光路切换机构发射第二光束，所述光路切换机构将所述第二光束反射至所述加工头，且所述加工头沿预定路径抛光所述工件。