[发明专利]一种稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置

权利要求书

1.一种稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述装置主要由壳体、隔板、填料架、限载机构和波浪板组成：

所述隔板将所述壳体的密闭容置空间分割成进水泵室、COD去除反应室、短程硝化反应室、波浪板室和厌氧氨氧化反应室；

所述填料架设置于所述COD去除反应室内；

所述限载机构设置于所述短程硝化反应室内，所述限载机构用于限制微生物填料的运动；

所述波浪板设置于所述波浪板室内，所述波浪板将所述短程硝化反应室和所述厌氧氨氧化反应室连通；

当处理污水时，外部污水由所述装置的进水口进入所述进水泵室，然后依次流经所述COD去除反应室、所述短程硝化反应室、所述波浪板室和所述厌氧氨氧化反应室，经过处理后的清水由所述装置的排水口排出。

2.根据权利要求1所述的稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述填料架为长方体或多面体，其内部设置多块肋板，不同肋板之间沿竖直方向并行排列。

3.根据权利要求2所述的稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述肋板在水平方向上的截面呈S形，相邻两块所述肋板之间的距离为0.1-5cm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述填料架的下端固定在填料架支架上，所述填料架支架固定在所述COD去除反应室的底部。

5.根据权利要求4所述的稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述填料架的底端距离所述COD去除反应室的底部的高度为所述COD去除反应室总高度的45～55％。

6.根据权利要求1所述的稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述限载机构安装在限载机构支架上，所述限载机构支架固定在所述短程硝化反应室的底部，所述限载机构在传动机构的作用下，能沿所述限载机构支架上下移动。

7.根据权利要求6所述的稳定实现短程硝化厌氧氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述限载机构包括至少一个开孔平板，所述开孔的内径＜微生物填料外径的30％，所述平板的密度为950～1050kg/m³。

8.根据权利要求1所述的稳定实现短程硝化氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述波浪板至少设置一层，所述波浪板的一端衔接所述短程硝化反应室的排水口，另一端衔接所述厌氧氨氧化反应室的进水口，

当所述波浪板的层数≥2时，所述波浪板呈上下层叠分布，相邻上下两层所述波浪板头尾衔接，使得所有的所述波浪板串连成污水流经的通道。

9.根据权利要求1所述的稳定实现短程硝化氨氧化过程的装置，其特征在于：

所述短程硝化反应室的底部设置曝气装置和在线DO检测装置。

10.根据权利要求1所述的稳定实现短程硝化氨氧化过程的装置，其特征在于：

在所述厌氧氨氧化反应室的上部设置齿状微生物填料支架，微生物填料能悬挂在相邻两齿状凸起之间，所述微生物填料的底部设置有配重物。