[发明专利]光学元件制造设备有效
申请号: | 202110992059.3 | 申请日: | 2021-08-27 |
公开(公告)号: | CN113426792B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 王仕初;刘涛;卢武州 | 申请(专利权)人: | 深圳双十科技有限公司 |
主分类号: | B08B11/00 | 分类号: | B08B11/00;B08B11/02;B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 深圳市程炎知识产权代理事务所(普通合伙) 44676 | 代理人: | 刘涛;罗水江 |
地址: | 518123 广东省深圳市龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 制造 设备 | ||
本发明涉及光学元件技术领域,公开了一种光学元件制造设备,包括加工装置和清洗装置;加工装置用于加工光学元件;所述清洗装置包括承载单元、清洗单元和导流罩,所述导流罩设置于所述承载单元上,所述承载单元设有至少一个用于容纳经所述加工装置加工后的所述光学元件的容纳工位,所述容纳工位位于所述导流罩内,所述导流罩设有导流孔,所述清洗单元用于清洗位于所述容纳工位中的所述光学元件。本发明的光学元件制造设备清洗效率高,清洗效果好,便于光学元件的生产制造。
技术领域
本发明涉及光学元件技术领域,尤其涉及一种光学元件制造设备。
背景技术
光学元件加工过程中会产生大量的废料屑,如果不将这些废料屑清洗掉,对于光学元件的使用会造成极大的影响。目前,在摄像头模组等光学元件的制造中,对于摄像头模组的清洗不易,且没有统一的清洗装置,当清洗液溅到清洗装置或其他部件上时易反弹,清洗液反弹容易出现二次污染,从而加大了清洗的工作量,清洗效率低,清洗效果差,对于摄像头模组的生产制造造成了极大的影响。
发明内容
本发明提出了一种光学元件制造设备,解决了光学元件制造过程中,清洗效率低、清洗效果差的技术问题。
为了解决上述技术问题,本发明的实施例提出了一种光学元件制造设备,包括:
加工装置,用于加工光学元件;
清洗装置,所述清洗装置包括承载单元、清洗单元和导流罩,所述导流罩设置于所述承载单元上,所述承载单元设有至少一个用于容纳经所述加工装置加工后的所述光学元件的容纳工位,所述容纳工位位于所述导流罩内,所述导流罩设有导流孔,所述清洗单元用于清洗位于所述容纳工位中的所述光学元件。
可选地,所述导流罩一端连接在所述承载单元,所述导流罩另一端设有朝所述导流罩中心倾斜的倾斜边框。
可选地,所述导流罩的高度为25mm~35mm,所述导流罩上还设有抽气孔,所述抽气孔内设有过滤网。
可选地,所述清洗单元包括固定组件和喷嘴,所述喷嘴设在所述固定组件上,所述喷嘴位于所述导流罩内,所述喷嘴用于与清洗源连通,所述喷嘴能够清洗位于所述容纳工位的光学元件。
可选地,所述固定组件包括:
固定杆;
第一固定块,所述第一固定块设在所述固定杆上,所述第一固定块上设有第一条形孔;
第二固定块,所述喷嘴设在所述第二固定块上;
第一锁紧件,所述第一锁紧件安装于所述第二固定块,所述第一锁紧件穿设在所述第一条形孔内,所述第二固定块通过所述第一锁紧件、第一条形孔和所述第一固定块可调节相连。
可选地,所述清洗装置还包括依次对接的上料机构、第一传输机构和第二传输机构;
所述上料机构用于将加工后的所述光学元件传送至所述第一传输机构,所述第一传输机构通过所述第二传输机构将所述光学元件传送至所述承载单元。
可选地,所述上料机构包括:
固定单元,所述固定单元包括固定座、挡板和第一推动元件,所述固定座包括第一侧、第二侧、第三侧和第四侧,所述第一侧和所述第二侧相对,所述第三侧和所述第四侧相对,所述挡板位于所述第一侧,所述第一推动元件位于所述第二侧,所述第一推动元件的伸缩端能够朝所述第一侧伸缩;
推动单元,所述推动单元位于所述第三侧,所述推动单元能够朝所述第四侧推动,所述第四侧和所述第一传输机构对接;
第一直线模组,所述第一直线模组包括至少两个所述固定单元;
支座,所述第一直线模组沿竖直方向滑动设在所述支座上。
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