[发明专利]图像投影装置在审

专利信息
申请号: 202110999180.9 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN114114796A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 高野洋平;今井重明;藤田和弘;平川真 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03B21/00 分类号: G03B21/00;G03B21/14;G02B13/22
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 韩锋
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 图像 投影 装置
【权利要求书】:

1.一种图像投影装置,其中具备

光源,发射照明光;

图像显示元件,其中具有多个微镜,通过改变各个微镜的反射面相对于该多个微镜的二维设置所形成的面即图像显示面的角度,改变所述照明光在所述反射面受到反射的反射光的方向;以及

投射光学系统,用于将所述图像显示元件生成的所述反射光作为投影图像投射到被投射面,

所述微镜的所述反射面相对于所述图像显示面的最大倾角θ1满足以下式(1),同时,所述图像显示面的对角线长度L,以及所述投射光学系统的所述图像显示面最接近透镜的镜面的顶点与所述图像显示面之间在该投射光学系统的光轴上的距离BF,满足以下式(2),

θ1≥14 (1),θ1的单位是deg,

1.2<BF/L<2.2 (2)。

2.根据权利要求1所述的图像投影装置,其中,所述投射光学系统中最接近所述图像显示面的透镜的外径D,所述光轴与包括所述图像显示面的平面的交点和该图像显示面上的点之中与所述交点相距最远的点之间的距离ImC,以及所述距离BF,满足以下式(3),

(D/2-ImC)/BF<0.2 (3)。

3.根据权利要求1或2所述的图像投影装置,其中,所述投射光学系统是远心透镜。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的图像投影装置,其中,进一步具备被设置在比所述投射光学系统的孔径光阑更靠近所述图像显示元件一方的视场光阑。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的图像投影装置,其中,

进一步具备被设置在所述投射光学系统和所述图像显示元件之间的多个光学元件,

所述多个光学元件的总厚度T和所述距离BF满足以下式(4),

T/BF<0.7 (4)。

6.根据权利要求5所述的图像投影装置,其中,所述多个光学元件包括相对于所述光轴倾斜的平行平板。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的图像投影装置,其中,进一步具备光线去除结构,该光学去除结构设置在用于支撑最接近所述图像显示面的透镜组的支撑部件上,用来吸收光。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的图像投影装置,其中,用公式Et=M×π×NA2求出的光学扩展量Et满足以下式(5),

Et<35 (5),Et的单位是m2sr,

在此,M是所述图像显示面的面积,NA为所述投射光学系统的数值孔径。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的图像投影装置,其中,所述图像显示元件的中心偏离所述投射光学系统的光轴的延长线。

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