[发明专利]一种底部抗反射涂料组合物及光刻胶浮雕图像的形成方法

权利要求书

1.一种底部抗反射涂料组合物，其特征在于，所述底部抗反射涂料组合物中含有树脂A和树脂B，所述树脂A含有叔胺基团且不含有氯基团，所述树脂B含有氯基团且不含有叔胺基团，所述树脂A和树脂B的质量比为(2~20):1；所述底部抗反射涂料组合物中的叔胺基团以及氯基团能够在无需使用单独交联剂组分以及作为催化剂的酸及生酸剂化合物的条件下实现加热固化，同时不产生挥发性物质；

所述树脂A同时包括式（A-1）所示的结构单元和式（A-2）所示的结构单元；式（A-1）所示的结构单元和式（A-2）所示的结构单元的摩尔比为(30~50):(50~70)；

式（A-1），式（A-2）

式（A-1）中，R₁、R₂和R₃各自独立地为氢、任选经取代的烷基或任选经取代的环烷基；R₄为-C(=O)-O-、-O-、-(CH₂)_n1-O-、-O-(CH₂)_n2-、-(CH₂)_n3-、-Ar₁-O-、-O-Ar₂-或-Ar₃-，n1和n2为正整数，n3为非负整数，Ar₁、Ar₂和Ar₃各自独立地为任选经取代的碳环芳基或任选经取代的杂芳基；R₅为任选经取代的烷基或任选经取代的环烷基且R₅中至少包含一个叔胺基团；

式（A-2）中，R₆、R₇和R₈的定义同R₁；R₉的定义同R₄；R₁₀为氢、任选经取代的烷基、任选经取代的环烷基或任选经取代的芳基；

所述树脂B同时包括式（B-1）所示的结构单元和式（B-2）所示的结构单元；式（B-1）所示的结构单元和式（B-2）所示的结构单元的摩尔比为(10~50):(50~90)；

式（B-1），式（B-2）

式（B-1）中，R₁₁为氢、氯基团、任选经取代的烷基或任选经取代的环烷基；R₁₂为-C(=O)-O-、-O-、-(CH₂)_n1-O-、-O-(CH₂)_n2-、-(CH₂)_n3-、-Ar₁-O-、-O-Ar₂-或-Ar₃-，n1和n2为正整数，n3为非负整数，Ar₁、Ar₂和Ar₃各自独立地为任选经取代的碳环芳基或任选经取代的杂芳基；R₁₃为氯基团、任选经取代的烷基或任选经取代的环烷基，且R₁₁和R₁₃中至少一者含有氯基团；

式（B-2）中，R₁₄、R₁₅和R₁₆各自独立地为氢、任选经取代的烷基或任选经取代的环烷基；R₁₇的定义同R₁₂；R₁₈为氢、任选经取代的烷基、任选经取代的环烷基或任选经取代的芳基。