[发明专利]关键尺寸的控制方法与控制系统

权利要求书

1.一种关键尺寸的控制方法，其特征在于，包括：

建立光刻胶的曝光剂量与关键尺寸变异值的对应关系的第一数据库；

获取关键尺寸的实际变异值，根据所述实际变异值与所述第一数据库，获取曝光剂量的第一修正量；

建立光刻胶的烘烤与显影之间的等待时间与关键尺寸变异值的对应关系的第二数据库；

预设所述烘烤与显影之间的标准延迟时间，获取光刻胶烘烤与显影之间的实际等待时间，并确定所述实际等待时间与所述标准延迟时间之间的时间差值；

根据所述时间差值与第二数据库，获取关键尺寸的补偿变异值；

根据所述补偿变异值与所述第一数据库，获取曝光剂量的第二修正量；

根据所述第一修正量与所述第二修正量，修正光刻胶的曝光剂量；

根据修正后的曝光剂量，进行关键尺寸的调整。

2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，建立光刻胶的曝光剂量与关键尺寸变异值的对应关系的第一数据库，包括：

提供多个衬底，在所述衬底上形成光刻胶；

根据目标关键尺寸值，预设曝光剂量对所述光刻胶进行曝光处理；

在曝光处理后经第一时间后进行烘烤处理；

在烘烤处理后经第二时间进行显影处理；

测量不同曝光剂量下的光刻胶的测量关键尺寸值，根据所述测量关键尺寸值与所述目标关键尺寸值确定关键尺寸的变异值；

根据所述变异值与所述曝光剂量，建立光刻胶的曝光剂量与关键尺寸变异值的对应关系的第一数据库。

3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，根据所述变异值与所述曝光剂量，建立光刻胶的曝光剂量与关键尺寸变异值的对应关系的第一数据库，包括：

根据多组不同曝光剂量下的光刻胶的测量关键尺寸值，拟合出不同曝光剂量与光刻胶的测量关键尺寸值的第一线性相关系数；

根据所述第一线性相关系数，建立光刻胶的曝光剂量与关键尺寸变异值的对应关系的第一数据库。

4.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，获取关键尺寸的实际变异值，根据所述实际变异值与所述第一数据库，获取曝光剂量的第一修正量，包括：

获取关键尺寸的实际变异值；

根据所述实际变异值与所述第一线性相关系数，获取曝光剂量的第一修正量。

5.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，建立光刻胶的烘烤与显影之间的等待时间与关键尺寸变异值的对应关系的第二数据库，包括：

预设烘烤与显影之间的标准延迟时间与最大延迟时间；

建立所述标准延迟时间与所述最大延迟时间之间的时间段与关键尺寸变异值的对应关系的第二数据库。

6.根据权利要求5所述的控制方法，其特征在于，建立所述标准延迟时间与所述最大延迟时间之间的时间段与关键尺寸变异值的对应关系的第二数据库，包括：

提供多个衬底，在所述衬底上形成光刻胶；

根据目标关键尺寸值，预设曝光剂量对所述光刻胶进行曝光处理；

在曝光处理后经第一时间后进行烘烤处理；

在烘烤处理后经第二时间进行显影处理，所述第二时间位于所述标准延迟时间与所述最大延迟时间之间；

测量不同第二时间下的光刻胶的测量关键尺寸值，根据所述测量关键尺寸值与所述目标关键尺寸值确定关键尺寸的变异值；

根据所述变异值与所述第二时间，建立所述标准延迟时间与所述最大延迟时间之间的时间段与关键尺寸变异值的对应关系的第二数据库。

7.根据权利要求6所述的控制方法，其特征在于，根据所述变异值与所述第二时间，建立所述标准延迟时间与所述最大延迟时间之间的时间段与关键尺寸变异值的对应关系的第二数据库，包括：

根据多组不同第二时间下的光刻胶的测量关键尺寸，拟合出不同第二时间与光刻胶的测量关键尺寸值的第二线性相关系数；

根据所述第二线性相关系数，建立所述标准延迟时间与所述最大延迟时间之间的时间段与关键尺寸变异值的对应关系的第二数据库。