[发明专利]用于数据中心的机架在审

专利信息
申请号: 202111004378.5 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN114206051A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 亨里克·克拉巴;朱尔斯·赫尔曼·博南方;瓦连京·卡尔蒂尼 申请(专利权)人: OVH公司
主分类号: H05K7/14 分类号: H05K7/14
代理公司: 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 代理人: 王晖
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 数据中心 机架
【权利要求书】:

1.一种用于对数据中心设备(23)进行支撑的机架(10),所述机架(10)包括:

框架(12),所述框架(12)具有在所述机架的横向方向上彼此相反的第一横向端部(14)和第二横向端部(16)以及在所述机架的深度方向上彼此相反的前端部(18)和后端部(20),所述深度方向垂直于所述横向方向,所述框架包括:

至少两个竖向壁支撑件(24),所述至少两个竖向壁支撑件(24)在横向上彼此间隔开;以及

基部件(22),所述基部件(22)限定所述机架的底部部分,所述至少两个竖向壁支撑件连接至所述基部件并从所述基部件向上延伸,所述基部件限定第一开口和第二开口,所述第一开口和所述第二开口在所述机架的所述横向方向上延伸,所述第一开口和所述第二开口用于沿着所述机架的所述横向方向接纳提升机器(200)的叉状件,所述基部件包括:

第一上壁,所述第一上壁对所述第一开口进行部分地限定;

第二上壁,所述第二上壁对所述第二开口进行部分地限定,所述第二上壁大致平行于所述第一上壁;

下壁(42),所述下壁(42)沿着所述深度方向设置在所述第一上壁与所述第二上壁之间,所述下壁延伸成在竖向上低于所述第一上壁和所述第二上壁;以及

两个侧壁(44),所述两个侧壁(44)至少部分地从所述下壁竖向地延伸至所述第一上壁和所述第二上壁中的相应的一者,所述两个侧壁和所述下壁一起限定中间腔(45),

所述两个侧壁中的每一者均限定第三开口和第四开口,所述第三开口和所述第四开口用于沿着所述机架的所述深度方向接纳所述提升机器的所述叉状件。

2.根据权利要求1所述的机架,其中,所述至少两个竖向壁支撑件延伸到所述中间腔中。

3.根据权利要求1或2所述的机架,其中,所述至少两个竖向壁支撑件包括在横向上彼此间隔开的至少四个竖向壁支撑件。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的机架,其中,所述基部件包括限定所述第一上壁、所述第二上壁和所述下壁的上基部件构件(32),所述上基部件构件是单件式部件。

5.根据权利要求1至3中的任一项所述的机架,其中,所述基部件包括:

上基部件构件(32),所述上基部件构件(32)限定所述第一上壁、所述第二上壁和所述下壁;以及

下基部件构件(34),所述下基部件构件(34)在所述上基部件构件下方延伸并形成底部水平壁,所述下基部件构件(34)与所述上基部件构件一起限定所述第一开口和所述第二开口。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的机架,其中,所述基部件的至少大部分是由金属板制成的。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的机架,其中,所述数据中心设备包括服务器,所述机架还包括多个轨(35),所述轨(35)连接至所述至少两个竖向壁支撑件以用于对所述服务器进行支撑。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的机架,其中,所述机架的在所述第一横向端部与所述第二横向端部之间测得的宽度大于所述机架的在所述机架的下端部(17)与所述机架的上端部(19)之间测得的高度。

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的机架,其中,所述至少两个竖向壁支撑件中的每一者均机械地紧固至所述基部件。

10.根据权利要求1至9中的任一项所述的机架,其中,

所述基部件的沿着在所述深度方向上延伸的竖向平面截取的横截面轮廓(CP)的一部分具有阶梯函数形状;以及

所述第一上壁、所述第二上壁和所述下壁形成所述阶梯函数形状的水平部分。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的机架,其中,所述框架还包括平行于所述基部件延伸的上框架构件(54),所述上框架构件连接至所述至少两个竖向壁支撑件中的每一者的上端部。

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