[发明专利]一种电流辅助低温快速制备超细碳化硼粉体的方法有效
申请号: | 202111004785.6 | 申请日: | 2021-08-30 |
公开(公告)号: | CN113548667B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 傅正义;吕秋霖;张帆;张金咏;王为民 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | C01B32/991 | 分类号: | C01B32/991;B01J19/08;B82Y40/00;C04B35/563;C04B35/626 |
代理公司: | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人: | 柏琳容 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电流 辅助 低温 快速 制备 碳化 硼粉体 方法 | ||
本发明公开一种电流辅助低温快速制备超细碳化硼粉体的方法,属于硼材料技术领域。该电流辅助低温快速制备超细碳化硼粉体的方法,包括以下步骤:S1、将硼源和碳源混合研磨得到混合粉体;S2、在惰性气体的气氛中对所述混合粉体进行辐射加热至1400‑1600℃并保温;S3、保温的同时,对所述混合粉体两端施加50‑500V的初始电压,电流限制设置为0.5‑2A,电流达到限制后进入恒流模式并维持5‑30min,得到所述碳化硼粉体。本发明还包括上述制备方法制备得到的碳化硼粉体。本发明在较低温度下即可制得粒度小的碳化硼粉体。
技术领域
本发明涉及硼材料技术领域,具体涉及一种电流辅助低温快速制备超细碳化硼粉体的方法。
背景技术
碳化硼(B4C)是一种具有多功能非氧化陶瓷,具有高熔点(2450℃)、低密度(2.52g/cm3)、高硬度(仅次于金刚石、立方氮化硼,超过1300℃时硬度则超过二者)、良好的化学稳定性(抗氧化、耐腐蚀)、大中子吸收截面等优良性能。近年来,由碳化硼制备的材料已广泛应用于各行各业。例如,在材料打磨行业中的喷嘴、砂轮等耐磨材料;在军工行业中利用其密度、电性能等特性制备的防弹装甲板和电热转换装置;在核工业中用于吸收中子控制反应进行的关键部件。
碳化硼粉体性能的优异直接影响到成品碳化硼陶瓷的最终性能,因此制备高性能的碳化硼粉体一直是科研工作者的研究热点。目前制备碳化硼粉体的方法有碳热还原法,镁热法,化学气相沉积法,自蔓延高温合成法,前驱体转化法,溶胶凝胶法,机械合金化法等。
目前碳热还原法是工业上制备碳化硼粉体的主要方法,一般以硼酸或氧化硼为硼源,炭黑为碳源,混合后置于电弧炉内,加热到1800-2100℃保温4h进行生产,硼酸或氧化硼在450℃左右时开始熔化并挥发,热力学计算表明,氧化硼在1550℃时才能和碳反应生成碳化硼,但在该温度下反应速度很慢,所以需要将温度提高到1800-2100℃,而氧化硼的沸点为1860℃,在高温下大量挥发造成原材料损失,所以一般情况下原料中硼的含量需要过量20-30%,且电弧炉中温度分布不均匀,炉区温差大,炉中心部位的温度可能超过碳化硼的熔点(2350℃),使其发生包晶分解,析出游离碳和其他高硼化合物,而远离炉中心区的温度偏低,反应进行不完全。,所以传统的碳热还原法制备碳化硼粉体的过程中所需温度高,往往在1800℃以上,保温时间4h,且产物纯度和粒度难以控制。为了降低能耗、减少成本、提高产品纯度,科研人员结合一些辅助方法对传统的碳热还原法进行了改进。这些方法包括有机物前驱体法、溶胶凝胶法等低温合成方法以及采用不同的碳源、硼源,比如采用酚醛树脂、聚乙烯醇等大分子有机物可以用来制备粒度更细的碳化硼粉体。
现阶段关于在电场辅助下制备碳化硼粉体的研究较少,冯良荣(专利申请号(201811411252.8)将硼源和碳源混合后置于直热式回转窑或者直热式立窑中,通过电极对物料施加电流,通过物料自身的电阻或颗粒之间的接触电阻发热而加热物料。回转窑内高温段最高温度1950℃,成功制备出碳化硼粉体。该方法中电流为唯一加热源,且所使用电流较大,因此对设备要求较高,且该方法温度较高,导致生成的碳化硼粉体粒径较大。
发明内容
本发明的目的在于克服上述技术不足,提供一种电流辅助低温快速制备超细碳化硼粉体的方法,解决现有技术中制备碳化硼粉体需要较高的温度且粒径较大的技术问题。
为达到上述技术目的,本发明的技术方案提供一种电流辅助低温快速制备超细碳化硼粉体的方法,包括以下步骤:
S1、将硼源和碳源混合研磨得到混合粉体;
S2、在惰性气体的气氛中对所述混合粉体进行辐射加热至1400-1600℃并保温;
S3、保温的同时,对所述混合粉体两端施加50-500V的初始电压,电流限制设置为0.5-2A,电流达到限制后进入恒流模式并维持,得到所述碳化硼粉体。
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