[发明专利]一种确定并联电抗器气隙结构的方法和系统

权利要求书

1.一种确定并联电抗器气隙结构的方法，其特征在于，所述方法包括：

步骤1、根据并联电抗器的电抗值要求，以及并联电抗器的特征参数值计算所述并联电抗器的整体气隙长度值H；

步骤2、根据所述整体气隙长度值H和单个气隙长度的初始值δ确定所述并联电抗器的气隙个数k；

步骤3、根据确定的气隙个数k和所述单个气隙长度的初始值δ，单个铁芯饼的厚度d，总的铁芯饼厚度D，建立并联电抗器铁芯的三维计算模型M₀，并在所述三维计算模型M₀的绕组上加载电压或者电流，根据所述绕组上的电流密度J₀和电阻率ρ₀，空气磁导率μ₀，铁芯的相对磁导率μ₁和磁阻率υ₀计算所述并联电抗器的所有铁芯饼的平均麦克斯韦力F₀；

步骤4、根据所述整体气隙长度值H，气隙个数k和设置的单个气隙长度的变化量∆δ_j，在保持铁芯饼的尺寸不变的情况下，对所述并联电抗器铁芯的三维计算模型M₀的气隙尺寸进行重新优化，建立并联电抗器铁芯的三维计算模型M_j，并在所述三维计算模型M_j的绕组上加载电压或者电流，根据所述绕组上的电流密度J_j和电阻率ρ_j，空气磁导率μ₀，铁芯的相对磁导率μ₁和磁阻率υ₀计算所述并联电抗器的所有铁芯饼的平均麦克斯韦力F_j，其中，1≤j≤N，N为自然数；

步骤5、当F_jF _j-1时，令j=j+1,并重新设置单个气隙长度的变化量∆δ_j后返回步骤4；

步骤6、当F_jF_j-1时，按照设置的单个气隙长度的变化量∆δ_j-1确定的并联电抗器气隙结构是所述并联电抗器的最优气隙结构；当F_j=F_j-1时，按照单个气隙长度的变化量为

（∆δ_j+∆δ_j-1）/2确定的并联电抗器气隙结构是所述并联电抗器的最优气隙结构。