[发明专利]一种保偏光学膜、一种解干涉保偏微透镜膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202111010655.3 | 申请日： | 2021-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN114114507B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 夏寅;余洋;赵国林;付坤;陈建文;李刚;唐海江;张彦 | 申请（专利权）人： | 宁波激智科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B3/00;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京德和衡律师事务所 11405 | 代理人： | 张华 |
| 地址： | 315040 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 偏光 干涉 保偏微 透镜 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种解干涉保偏微透镜膜，其特征在于，所述解干涉保偏微透镜膜包括保偏基体层、第一结构层和第二结构层；第一结构层为随机排列微透镜阵列层，位于基体层上表面；第二结构层不存在或为雾化层，位于基体层下表面，所述随机排列微透镜阵列层中，相邻的三个微透镜的主光轴的坐标相连形成普通三角形；在所述随机排列微透镜阵列层中，相邻微透镜的主光轴间距随机变化，变化范围为40μm-50μm；微透镜的宽度为40μm；微透镜的高宽比为定值，选自0.1、0.2或0.3。
2.根据权利要求1所述的解干涉保偏微透镜膜，其特征在于，所述随机排列微透镜阵列层中，随机微透镜阵列的平面覆盖率C为80％～90％。
3.根据权利要求1所述的解干涉保偏微透镜膜，其特征在于，所述随机排列微透镜阵列层的雾度为65～85％，所述雾化层的雾度为5％。
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