[发明专利]一种保偏光学膜、一种解干涉保偏微透镜膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111011848.0 申请日: 2021-08-31
公开(公告)号: CN114114509B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 夏寅;余洋;赵国林;付坤;陈建文;李刚;唐海江;张彦 申请(专利权)人: 宁波激智科技股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B3/00;G02F1/13357
代理公司: 北京德和衡律师事务所 11405 代理人: 张华
地址: 315040 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 偏光 干涉 保偏微 透镜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种解干涉保偏微透镜膜,其特征在于,所述解干涉保偏微透镜膜包括保偏基体层、第一结构层和第二结构层;第一结构层为随机微透镜阵列层,位于基体层上表面;第二结构层不存在或为雾化层,位于基体层下表面;在所述随机微透镜阵列层中,相邻微透镜的主光轴间距随机变化,变化范围为10μm-50μm;微透镜的宽度随机变化,变化范围为10μm-50μm;微透镜的高宽比随机变化,变化范围为0.1-0.3。

2.根据权利要求1所述的解干涉保偏微透镜膜,其特征在于,微透镜的高宽比变化范围为0.1-0.2。

3.根据权利要求1或2所述的解干涉保偏微透镜膜,其特征在于,所述随机微透镜阵列层中,随机微透镜阵列的平面覆盖率C为80%~95%。

4.根据权利要求1或2所述的解干涉保偏微透镜膜,其特征在于,所述随机微透镜阵列层的雾度为60~87%。所述雾化层的雾度为5%。

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