[发明专利]一种胶印专色余墨再配色方法、装置、系统及介质在审
申请号: | 202111014632.X | 申请日: | 2021-08-31 |
公开(公告)号: | CN113791746A | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 史太川;贾圆圆;李静;吕伟 | 申请(专利权)人: | 深圳劲嘉集团股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/12 | 分类号: | G06F3/12;G06F16/9035;B41F33/00 |
代理公司: | 广东良马律师事务所 44395 | 代理人: | 邓天祥 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 胶印 专色余墨再 配色 方法 装置 系统 介质 | ||
1.一种胶印专色余墨再配色方法,其特征在于,包括以下步骤:
根据基础油墨的预设浓度梯度制作基墨样品,并构建基础油墨及基材数据库;
采用100%浓度的专色余墨模拟胶印打样,并构建余墨数据库;
根据目标专色筛选与目标专色色差最小的余墨、相应的基墨和基材构建配色数据库,并以极小化光谱误差为目标函数,迭代计算求解谱差最小的初始配方;
利用初始配方打样,并计算初始配方样品与目标专色的色差,以极小化色差为目标函数,迭代计算求解色差最小的修正配方。
2.根据权利要求1所述的胶印专色余墨再配色方法,其特征在于,所述根据基础油墨的预设浓度梯度制作基墨样品,并构建基础油墨及基材数据库的步骤包括:
选定用于配色的基础油墨,根据不同浓度梯度的基础油墨模拟胶印打样;
测量基础油墨浓度梯度样条与打样基材的可见光光谱反射率;
根据K-M理论获取各浓度梯度基墨样条与基材的吸收散射比;
将各基础油墨浓度梯度样条的吸收散射比与基材吸收散射比的差值通过线性最小二乘法求解,获得基础油墨的单位吸收散射比,并构建墨数据库。
3.根据权利要求1所述的胶印专色余墨再配色方法,其特征在于,所述采用100%浓度的专色余墨模拟胶印打样,并构建余墨数据库的步骤包括:
采用100%浓度的专色余墨模拟胶印打样;
测量余墨样条的可见光光谱反射率;
根据K-M理论获取余墨的吸收散射比,并构建余墨数据库。
4.根据权利要求1所述的胶印专色余墨再配色方法,其特征在于,所述根据目标专色筛选与目标专色色差最小的余墨、相应的基墨和基材构建配色数据库,并以极小化光谱误差为目标函数,迭代计算求解谱差最小的初始配方的步骤包括:
测量目标专色样品的可见光光谱反射率,并计算出目标专色的吸收散射比;
从余墨数据库和基础油墨及基材数据库中筛选与目标专色色差最小的余墨、合适的基础油墨以及与目标专色相同或相近的基材构建配色数据库;
基于K-M理论的光谱预测算法以极小化光谱误差为目标函数,进行迭代计算求解谱差最小的初始配方。
5.根据权利要求1所述的胶印专色余墨再配色方法,其特征在于,所述利用初始配方打样,并计算初始配方样品与目标专色的色差,以极小化色差为目标函数,迭代计算求解色差最小的修正配方的步骤包括:
将初始配方样条与目标专色的颜色三刺激值差值delta XYZ对目标专色三刺激值进行补偿,并以极小化色差为目标函数,迭代计算求解色差最小的修正配方;
根据修正配方调墨、打样,并测量其与目标专色的色差,若不符合要求,则继续进行补偿修正,直至最终配方样条与目标专色的Delta E色差及目视色差均符合要求。
6.根据权利要求2所述的胶印专色余墨再配色方法,其特征在于,基墨样条、基材的吸收散射比通过以下公式获得:
K/S=(1-ρ)2/(2ρ)
其中,ρ为基础油墨样条或基材的可见光光谱反射率。
7.根据权利要求4所述的胶印专色余墨再配色方法,其特征在于,在迭代计算求解谱差最小的初始配方时通过以下公式获得:
其中,(K/S)λ为油墨混合印刷样的吸收散射比,(K/S)p,λ为基材的吸收散射比,(K/S)i,λ为各组分基础油墨的单位吸收散射比,Ci为第i个组分基础油墨的浓度,且需满足且Ci≥0,且∑iCi=1。
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