[发明专利]一种有机硅膜及其在制备具有平行光功能的发光装置中的应用

权利要求书

1.一种有机硅膜，其特征在于，由如下重量份的原料制成：

有机硅树脂 80～100份；改性纳米二氧化钛 1～5份；抗氧剂 0.1～1份；分散剂 0.1～1份；

所述的改性纳米二氧化钛通过包含如下步骤的方法制备得到：

S01.将纳米二氧化钛与一甲基三氯硅烷以及六甲基二硅烷胺混合均匀，得混合物；

S02.将混合物在空气气氛中焙烧4～6h，即得所述的改性纳米二氧化钛。

2.根据权利要求1所述的有机硅膜，其特征在于，由如下重量份的原料制成：

有机硅树脂 90～100份；改性纳米二氧化钛 2～3份；抗氧剂 0.1～0.5份；分散剂 0.1～0.5份。

3.根据权利要求1所述的有机硅膜，其特征在于，由如下重量份的原料制成：

有机硅树脂96份；改性纳米二氧化钛3份；抗氧剂0.5份；分散剂0.5份。

4.根据权利要求1所述的有机硅膜，其特征在于，步骤S01中纳米二氧化钛与一甲基三氯硅烷以及六甲基二硅烷胺的重量比为1:3～5:1～2。

5.根据权利要求4所述的有机硅膜，其特征在于，步骤S01中纳米二氧化钛与一甲基三氯硅烷以及六甲基二硅烷胺的重量比为1:4:1。

6.根据权利要求1所述的有机硅膜，其特征在于，步骤S02中将混合物在空气气氛中焙烧5h。

7.根据权利要求1所述的有机硅膜，其特征在于，步骤S02中焙烧的温度为540～600℃。

8.根据权利要求7所述的有机硅膜，其特征在于，步骤S02中焙烧的温度为560℃。

9.权利要求1～8任一项所述的有机硅膜的制备方法，其特征在于，通过包含如下步骤的方法制备得到：

S11.将有机硅树脂、改性纳米二氧化钛、抗氧剂以及分散剂混合均匀，得混合原料；

S12.采用喷涂设备将混合原料喷涂到基板上，待原料固化后即得所述的有机硅膜。

10.根据权利要求9所述的有机硅膜的制备方法，其特征在于，所述的基板为聚碳酸酯板。

11.权利要求1～8任一项所述的有机硅膜在制备具有平行光功能的发光装置中的应用，其特征在于，以贴合有权利要求1～8任一项所述的有机硅膜的聚碳酸酯板作为发光装置的光扩散板，并且在有机硅膜上刻有平行凹槽。