[发明专利]封装结构以及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202111020887.7 申请日: 2021-09-01
公开(公告)号: CN114725025A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 林昱圣;林柏尧;叶书伸;汪金华;郑心圃 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/04 分类号: H01L23/04;H01L23/14;H01L23/367;H01L23/373
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 王素琴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 封装 结构 及其 制作方法
【说明书】:

一种封装结构包括电路衬底、半导体封装、热界面材料、盖结构及散热结构。所述半导体封装设置在所述电路衬底上且电连接到所述电路衬底。所述热界面材料设置在所述半导体封装上。所述盖结构设置在所述电路衬底上且环绕所述半导体封装,其中所述盖结构包括局部地覆盖所述热界面材料且与所述热界面材料物理接触的支撑部。所述散热结构设置在所述盖结构上且与所述盖结构的所述支撑部物理接触。

技术领域

本公开实施例是有关一种封装结构及制作所述封装结构的方法。

背景技术

在各种电子应用(例如,手机及其他移动电子设备)中使用的半导体器件及集成电路通常制造在单个半导体晶片上。晶片的管芯可与其他半导体器件或管芯一起以晶片层级进行处理及封装,且已经开发出用于晶片层级封装的各种技术。

发明内容

本公开实施例提供一种封装结构包括电路衬底、半导体封装、热界面材料、盖结构以及散热结构。所述半导体封装设置在所述电路衬底上且电连接到所述电路衬底。所述热界面材料设置在所述半导体封装上。所述盖结构设置在所述电路衬底上且环绕所述半导体封装,其中所述盖结构包括局部地覆盖所述热界面材料且与所述热界面材料物理接触的支撑部。所述散热结构设置在所述盖结构上且与所述盖结构的所述支撑部物理接触。

本公开实施例提供一种封装结构包括电路衬底、中介层结构、多个半导体管芯、绝缘包封体、盖结构以及散热结构。所述中介层结构设置在所述电路衬底上且电连接到所述电路衬底。所述半导体管芯设置在所述中介层结构的第一表面上且电连接到所述中介层结构。所述绝缘包封体设置在所述中介层结构的所述第一表面上且环绕所述半导体管芯。所述盖结构设置在所述电路衬底上且环绕所述中介层结构及所述半导体管芯,其中所述盖结构包括与所述半导体管芯局部地交叠的第一开口。所述散热结构设置在所述盖结构上,其中所述散热结构包括填充到所述盖结构的所述第一开口中的突出部分。

本公开实施例提供一种封装结构包括电路衬底、中介层结构、多个第一半导体管芯、多个第二半导体管芯、盖结构以及散热结构。所述中介层结构设置在所述电路衬底上。所述第一半导体管芯设置在所述中介层结构的中心区之上。所述第二半导体管芯设置在所述中介层结构的外围区之上,且在所述第一半导体管芯旁边。所述盖结构设置在所述电路衬底上且环绕所述中介层结构、所述第一半导体管芯及所述第二半导体管芯,其中所述盖结构包括在显露出所述中介层结构的所述中心区的同时覆盖所述外围区的支撑部。所述散热结构设置在所述盖结构上,其中所述散热结构包括由所述盖结构的所述支撑部环绕的突出部分,且所述突出部分的顶表面的面积实质上对应于由位于所述中介层结构的所述中心区之上的所述第一半导体管芯所占用的面积。

附图说明

参照附图阅读以下详细说明,会最好地理解本公开的各个方面。应注意,根据本行业中的标准惯例,各种特征并非按比例绘制。事实上,为使论述清晰起见,可任意增大或减小各种特征的临界尺寸。

图1A到图1I是根据本公开一些示例性实施例的制作半导体封装的方法中的各种阶段的示意性俯视图及剖视图。

图2是根据本公开一些其他示例性实施例的半导体封装的示意性剖视图。

图3到图5B是根据本公开一些示例性实施例的制作封装结构的方法中的各种阶段的示意性俯视图、剖视图及三维图。

图6到图8B是根据本公开一些示例性实施例的制作封装结构的方法中的各种阶段的示意性俯视图、剖视图及三维图。

图9A到图10B是根据本公开一些示例性实施例的制作封装结构的方法中的各种阶段的示意性剖视图及三维图。

图11是根据本公开一些其他示例性实施例的封装结构的示意性剖视图。

图12A是根据本公开一些其他示例性实施例的封装结构的示意性剖视图。

图12B是图12A所示封装结构中的热界面材料的俯视图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111020887.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top