[发明专利]光斑改善型垂直腔面发射激光器及其制作方法

权利要求书

1.一种光斑改善型垂直腔面发射激光器，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底正面具有平坦的第一区域和位于所述第一区域周围的第二区域，所述第二区域的平坦程度小于所述第一区域，所述第二区域由对所述衬底正面进行粗糙化处理得到；

设置于所述衬底正面的N型DBR层；

设置于所述N型DBR层远离所述衬底一侧的发光层；

设置于所述发光层远离所述N型DBR层一侧的P型DBR层，所述P型DBR层靠近所述发光层一侧形成有环状的氧化层，所述第二区域构成的环状内径小于所述氧化层构成的出光孔径；

设置于所述P型DBR层远离所述发光层一侧的接触层和呈环状的P电极；

设置于所述衬底背面的N电极；

所述第二区域包括多个对所述衬底的边缘区域进行刻蚀形成的用于降低该边缘区域的平坦程度的粗糙部件，多个粗糙部件间隔设置，所述粗糙部件为形成于所述衬底上的凹槽，或形成于所述衬底上的柱状结构。

2.根据权利要求1所述的光斑改善型垂直腔面发射激光器，其特征在于，各所述粗糙部件的横截面宽度小于或等于2.5微米，相邻两个粗糙部件之间的距离小于或等于2.5微米。

3.根据权利要求1所述的光斑改善型垂直腔面发射激光器，其特征在于，所述粗糙部件的横截面的形状为圆形、椭圆形、方形或多边形。

4.根据权利要求1所述的光斑改善型垂直腔面发射激光器，其特征在于，各所述粗糙部件的刻蚀深度小于所述衬底的厚度。

5.根据权利要求1所述的光斑改善型垂直腔面发射激光器，其特征在于，所述衬底的被刻蚀位置处还填充有AlAs。

6.一种光斑改善型垂直腔面发射激光器的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一衬底；

对所述衬底的边缘进行粗糙化处理形成第一区域和位于所述第一区域周围的第二区域，所述第二区域的平坦程度小于所述第一区域；

于所述衬底正面依次形成N型DBR层、发光层、P型DBR层；

对所述P型DBR层靠近所述发光层一侧执行氧化工艺，形成环状的氧化层，所述第二区域构成的环状内径小于所述氧化层构成的出光孔径；

在所述P型DBR层远离所述发光层一侧形成接触层和环状的P型电极；

于所述衬底背面形成N电极；

所述第二区域包括多个对所述衬底的边缘区域进行刻蚀形成的用于降低该边缘区域的平坦程度的粗糙部件，多个粗糙部件间隔设置，所述粗糙部件为形成于所述衬底上的凹槽，或形成于所述衬底上的柱状结构。

7.根据权利要求6所述的光斑改善型垂直腔面发射激光器的制作方法，其特征在于，所述对所述衬底进行粗糙化处理形成第一区域和位于所述第一区域周围的第二区域的步骤，包括：

在所述衬底正面涂覆正性光刻胶；

加开孔后的光罩并曝光显影处理，以在所述衬底的边缘定义多个第一开口；

刻蚀各所述第一开口处的衬底，以在所述衬底上形成第一区域和位于所述第一区域周围的第二区域，所述第二区域包括多个间隔设置的凹槽。

8.根据权利要求6所述的光斑改善型垂直腔面发射激光器的制作方法，其特征在于，所述对所述衬底进行粗糙化处理形成第一区域和位于所述第一区域周围的第二区域的步骤，包括：

在所述衬底正面涂覆负性光刻胶；

加开孔后的光罩并曝光显影处理，以在所述衬底的边缘定义多个第二开口；

刻蚀各所述第二开口处的衬底，以在所述衬底上形成第一区域和位于所述第一区域周围的第二区域，所述第二区域包括多个间隔设置的柱状结构。