[发明专利]基材及其制作方法及电子设备有效

专利信息
申请号: 202111034444.3 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN113710033B 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 尹婷;尤德涛;李江龙 申请(专利权)人: 联想(北京)有限公司
主分类号: H05K5/02 分类号: H05K5/02;H01H13/83
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 姚璐华
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基材 及其 制作方法 电子设备
【说明书】:

本申请技术方案公开了一种基材及其制作方法及电子设备,基材包括:透明基底,所述透明基底具有相对的第一表面和第二表面;设置在所述第一表面上的第一膜层,所述第一膜层具有第一透光率,所述第一膜层具有镂空区域和非镂空区域,所述镂空区域作为第一图形标识;设置在所述第一膜层表面的第二膜层,所述第二膜层具有第二透光率,且具有设定颜色;其中,所述第一透光率小于所述第二透光率。

技术领域

本申请涉及电子设备技术领域,更具体的说,涉及一种基材及其制作方法及电子设备。

背景技术

现有技术中,制作电子设备组成部件的基材时,通过油墨在基底上形成设定的图形标识,或者,通过在基底上形成涂层后,通过刻蚀方式形成所述图形标识。为了保护图形标识,还可以在图形标识外侧形成保护层。

上述在基材表面形成图形标识的方法,所制备的标识展示效果单一,无法满足用户按键标识的多样性展示需求。

发明内容

有鉴于此,本申请提供了一种基材及其制作方法及电子设备,方案如下:

一种基材,用于电子设备,所述基材包括:

透明基底,所述透明基底具有相对的第一表面和第二表面;

设置在所述第一表面上的第一膜层,所述第一膜层具有第一透光率,所述第一膜层具有镂空区域和非镂空区域,所述镂空区域作为第一图形标识;

设置在所述第一膜层表面的第二膜层,所述第二膜层具有第二透光率,且具有设定颜色;其中,所述第一透光率小于所述第二透光率。

优选的,在上述基材中,所述第二膜层的透光率不小于10%。

优选的,在上述基材中,所述基材至少包括下述方式之一:

所述第二膜层背离所述透明基底的一侧表面具有第二图形标识;所述第二图形标识与所述镂空区域不交叠;

所述第一表面具有打底层,所述第一膜层位于所述打底层表面,所述打底层用于增加所述第一膜层的附着稳定性;

所述第二膜层背离所述第一膜层的一侧具有保护层,所述保护层至少用于抗指纹和/或防磨损;

所述第二膜层在第一光线条件下,能够遮蔽所述第一图形标识,在第二光线条件下,能够展示所述第一图形标识。

优选的,在上述基材中,所述基材用于作为按键的键帽,所述透明基底为键帽壳体,所述第二表面为所述键帽壳体的内表面;

所述键帽能够在第一工作状态展示所述第一图形标识,在第二工作状态隐藏所述第一图形标识。

本申请还提供了一种基材的制作方法,所述制作方法包括:

提供一透明基底,所述透明基底具有相对的第一表面和第二表面;

在所述第一表面上形成第一膜层,所述第一膜层具有第一透光率,具有镂空区域和非镂空区域,所述镂空区域作为第一图形标识;

在所述第一膜层表面形成第二膜层,所述第二膜层具有第二透光率,所述第二膜层具有设定颜色;其中,所述第一透光率小于所述第二透光率。

优选的,在上述制作方法中,形成所述第一膜层的方法包括:

通过物理气相沉积方法,在所述第一表面上形成所述第一膜层后,通过激光形成贯穿所述第一膜层的镂空区域;

或,提供具有所述镂空区域的所述第一膜层,将所述第一膜层贴合固定在所述第一表面。

本申请还提供了一种电子设备,所述电子设备包括:

上述任一项所述的基材;

所述基材包括:

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