[发明专利]一种光学级氧化镝磁光透明陶瓷的制备方法在审
申请号: | 202111037847.3 | 申请日: | 2021-09-06 |
公开(公告)号: | CN113683421A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 周鼎;徐家跃 | 申请(专利权)人: | 上海应用技术大学 |
主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50;C04B35/622;C04B35/626;C04B35/64 |
代理公司: | 重庆以知共创专利代理事务所(普通合伙) 50226 | 代理人: | 高建华 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 氧化 镝磁光 透明 陶瓷 制备 方法 | ||
本发明申请属于透明陶瓷制备技术领域,具体公开了一种光学级氧化镝磁光透明陶瓷的制备方法,包括以下步骤:(1)氧化镝纳米晶粉体的合成包括:配置含有特定浓度和pH值的Dy(NO3)3稀土溶液,添加5at.%La(NO3)3混合均匀;将沉淀剂溶液度滴入母液中并持续搅拌,直至沉淀液PH值达到固定值后停止滴定和搅拌;(2)将所得沉淀液陈化固定时间后获得胶状沉淀;(3)将步骤(2)中所得沉淀进行后处理,在马弗炉中煅烧。(4)将步骤(3)中的纳米粉体一次进行干压成型和冷等静压后获得陶瓷坯体;在具有还原气体的无压烧结炉中烧结之后获得氧化镝磁光透明陶瓷。本发明主要用于制备氧化镝磁光透明陶瓷,解决了现有技术中磁光陶瓷在低波段透明性差、生产工艺复杂的问题。
技术领域
本发明属于功能陶瓷制备技术领域,具体公开了一种光学级氧化镝磁光透明陶瓷的制备方法。
背景技术
一般陶瓷是不透光的,但是透明陶瓷具有一定的透光性,故称透明陶瓷。一般陶瓷不透明的原因是其内部存在有杂质和气孔,前者能吸收光,后者令光产生散射,所以就不透明了。因此如果选用高纯原料,并通过工艺手段排除气孔就可能获得透明陶瓷。早期就是采用这样的办法得到透明的氧化铝陶瓷,后来陆续研究出如烧结白刚玉、氧化镁、氧化铍、氧化钇、氧化钇-二氧化锆等多种氧化物系列透明陶瓷。目前又研制出非氧化物透明陶瓷,如氮化铝、硫化锌、氟化钙等。
现有技术中,生产得到的氧化镝磁光透明陶瓷在可见光波段透过率低、制备工艺复杂,制备周期长成本较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光学级氧化镝磁光透明陶瓷的制备方法,即采用纳米晶无压氢气烧结技术直接获得光学级的氧化镝透明陶瓷,为制备高光学质量的氧化镝磁光透明陶瓷提供了技术途径。
为了达到上述目的,本发明的技术方案为:一种光学级氧化镝磁光透明陶瓷的制备方法,包括以下步骤:
(1)氧化镝纳米晶粉体的合成包括:配置含有特定浓度和pH值的Dy(NO3)3稀土溶液,添加5at.%La(NO3)3混合均匀;采用正滴法将沉淀剂溶液按10ml/min的速度滴入5at.%La:Dy(NO3)3母液中并持续搅拌,直至沉淀液PH值达到固定值后停止滴定和搅拌;沉淀剂为氨水:碳酸氢铵的摩尔比为1:5的混合溶液;
(2)将步骤(1)中所得沉淀液陈化4-12小时;
(3)将步骤(2)中陈化得到的样品依次进行洗涤、烘干、过筛后,在马弗炉中以900-1100℃煅烧2h,获得纳米粉体;
(4)将步骤(3)中的纳米粉体一次进行干压成型和冷等静压获得陶瓷坯体;最后在具有还原气体的无压烧结炉中以1600℃烧结8-15h,后获得所述的光学级氧化镝磁光透明陶瓷。
进一步,步骤(4)中所用的还原气体为H2。
本技术方案的工作原理的有益效果在于:
本发明采用,通过湿化学共沉淀法制备的5at.%镧掺杂氧化镝纳米粉体具有高烧结活性,结合无压高纯氢气一步烧结即可制备出具有较好光学透过率、高费尔德常数的磁光透明陶瓷。本发明规避固相球磨导致的杂质引入、素坯在无压氢气中烧结活性好,无需热等静压和后续退火即可获得光学级的透明陶瓷。其制备工艺简单、成本低。本实验所得氧化镝磁光透明陶瓷的磁光Verdet常数达310±3rad/T.m(λ=633nm),约为商用TGG单晶的2.31倍,有望用于开发和装配特定波段应用的高性能磁光隔离器,用于高能激光系统。
附图说明
图1是实施例1制备的Dy2O3磁光透明陶瓷照片;
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