[发明专利]图像传感器在审

专利信息
申请号: 202111047814.7 申请日: 2021-09-08
公开(公告)号: CN113725246A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 康晓旭;赵宇航 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 孟秀娟;黄健
地址: 201210 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 图像传感器
【权利要求书】:

1.一种图像传感器,其特征在于,包括衬底,所述衬底内具有感光区、浮动区以及设置在所述感光区与所述浮动区之间的传输区;

所述感光区包括N型掺杂区以及设置在所述N型掺杂区上的P型掺杂区;

所述传输区内设置有沟道层,所述沟道层的一侧与所述N型掺杂区电接触,所述沟道层的另一侧与所述浮动区电接触,且所述沟道层的顶面低于所述P型掺杂区的最高面。

2.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述沟道层的顶面与所述P型掺杂区的最高面的垂直距离,小于等于所述沟道层的顶面与所述N型掺杂区的底面的垂直距离。

3.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述P型掺杂区包括第一P型掺杂区以及与所述第一P型掺杂区连接的第二P型掺杂区;

所述第一P型掺杂区沿第一方向延伸,所述第二P型掺杂区的延伸方向与所述第一方向之间具有第一预设夹角,且所述第二P型掺杂区背离所述第一P型掺杂区的端部朝向所述衬底,所述第一P型掺杂区的顶面构成所述P型掺杂区的最高面;

所述第二P型掺杂区背离所述第一P型掺杂区的端部与所述沟道层间隔设置。

4.根据权利要求3所述的图像传感器,其特征在于,所述P型掺杂区还包括与所述第一P型掺杂区连接的第三P型掺杂区,所述第三P型掺杂区包括延伸至所述衬底内的U型结构。

5.根据权利要求1-4任一项所述的图像传感器,其特征在于,所述N型掺杂区包括延伸部,所述延伸部沿第一方向延伸至所述传输区的下方;沿第二方向,所述延伸部的顶面与所述沟道层间隔设置,所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

6.根据权利要求1-4任一项所述的图像传感器,其特征在于,沿第一方向,所述N型掺杂区中离子浓度从背离所述沟道层的一侧,向靠近所述沟道层的一侧逐渐增加。

7.根据权利要求6所述的图像传感器,其特征在于,沿第二方向,所述N型掺杂区中离子浓度从背离所述P型掺杂区的一侧,向靠近所述P型掺杂区的一侧逐渐增加,所述第二方向与所述第一方向相互垂直。

8.根据权利要求7所述的图像传感器,其特征在于,所述P型掺杂区中离子浓度从背离所述沟道层的一侧,向靠近所述沟道层的一侧逐渐增加。

9.根据权利要求1-4任一项所述的图像传感器,其特征在于,所述沟道层的延伸方向与第一方向之间具有第二预设夹角,且所述沟道层与所述浮动区连接的一端背离所述衬底。

10.根据权利要求9所述的图像传感器,其特征在于,所述沟道层靠近所述N型掺杂区的端部与所述N型掺杂区贴合设置。

11.根据权利要求9所述的图像传感器,其特征在于,所述P型掺杂区靠近所述传输区的端部延伸至所述沟道层内,并与所述沟道层具有第一交叠区域;

所述N型掺杂区靠近所述传输区的部分端部延伸至所述沟道层内,并与所述沟道层具有第二交叠区域;

沿所述第一方向,所述第二交叠区域的长度小于所述第一交叠区域的长度。

12.根据权利要求1-4任一项所述的图像传感器,其特征在于,所述传输区还设置有栅氧化层和栅极,所述栅氧化层设置在所述沟道层上,所述栅极设置在所述栅氧化层背离所述沟道层的表面上。

13.一种图像传感器,其特征在于,包括衬底,所述衬底内具有感光区、传输区以及浮动区;

所述感光区包括N型掺杂区以及设置在所述N型掺杂区上的P型掺杂区;

所述传输区内设置有沟道层,所述沟道层的一侧与所述N型掺杂区电接触,所述沟道层的另一侧与所述浮动区电接触,且所述沟道层的顶面与所述P型掺杂区的顶面平齐,所述沟道层的底面与所述N型掺杂区的底面平齐或者所述沟道层的底面低于所述N型掺杂区的底面。

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