[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，以将形成于原版的图案转印到基板的方式对所述基板进行曝光，其特征在于，具备：

第1载置台，配置有与第1方向垂直的第1反射面，并且一边保持所述基板及所述原版中的一方，一边在所述第1方向上以预定的频率往返移动；

第1测量部，通过在朝向所述第1反射面射出第1测量光之后对由所述第1反射面反射的所述第1测量光进行接收，测量所述第1载置台在所述第1方向上的位置；

第2载置台，配置有与所述第1方向垂直的第2反射面，并且保持所述基板及所述原版中的另一方；

第2测量部，通过在朝向所述第2反射面射出第2测量光之后对由所述第2反射面反射的所述第2测量光进行接收，测量所述第2载置台在所述第1方向上的位置；

第3测量部，比所述第2载置台接近所述第1载置台地配置，并且测量在内部传输的第3测量光的波长；以及

控制部，根据所述第3测量部的测量结果和所述预定的频率，校正所述第2测量部的测量结果。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2载置台以在所述第1载置台向所述第1方向的一方的朝向移动时向另一方的朝向移动的方式在所述第1方向上以所述预定的频率往返移动。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1测量光以及所述第3测量光各自的波长与所述第1载置台的移动相应地变化，所述第2测量光的波长与所述第2载置台的移动相应地变化。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部通过将由所述第3测量部测量到的所述第3测量光的波长的时间变化输入给低通滤波器、带通滤波器以及高通滤波器中的至少一个，取得所述第3测量光的波长的时间变化中的预定的频率区域的分量。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1载置台以及所述第2载置台分别以在对所述基板进行曝光时在所述第1方向上以所述预定的频率往返的方式进行多个扫描移动，

所述预定的频率区域根据所述预定的频率而决定。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，具备：

第1低通滤波器，具有比所述预定的频率高的第1截止频率；以及

第2低通滤波器，具有比所述预定的频率低的第2截止频率，

所述控制部通过将由所述第3测量部测量到的所述第3测量光的波长的时间变化分别输入给该第1低通滤波器以及该第2低通滤波器，取得所述第3测量光的波长的时间变化中的第1频率区域的分量以及第2频率区域的分量。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

在将所述第1频率区域的分量设为λ_w^lpf_high(t)、将所述第2频率区域的分量设为λ_w^lpf_low(t)、将预定的系数设为a、将所述第2测量光的波长的时间变化设为λ_r(t)时，

所述控制部通过以满足下式的方式校正所述第2测量光的波长，校正所述第2测量部的测量结果，

λ_r(t)＝λ_w^lpf_low(t)－a(λ_w^lpf_high(t)－λ_w^lpf_low(t))。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，

所述a的值根据所述第2载置台的所述扫描移动中的最大速度相对于所述第1载置台的所述扫描移动中的最大速度的比而决定。