[发明专利]衬底的预处理方法、及该方法在金刚石膜制备过程中的应用

权利要求书

1.一种衬底的预处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.清洗衬底，然后干燥；

S2.将步骤S1所得衬底进行等离子体干法刻蚀；

S3.将步骤S2刻蚀后的衬底放入金刚石微粉和无水乙醇的悬浊液中进行超声接种；

S4.清洗、干燥后得预处理后的衬底，备用。

2.如权利要求1所述的衬底的预处理方法，其特征在于，所述衬底选用硅、二氧化硅、钛中的一种。

3.如权利要求1或2所述的衬底的预处理方法，其特征在于，步骤S2中，等离子干法刻蚀后，所得衬底表面粗糙度小于100 nm。

4.如权利要求3所述的衬底的预处理方法，其特征在于，步骤S2中，将步骤S1所得衬底放进等离子设备中进行等离子体干法刻蚀，具体参数为：气氛为氢气、氧气、氩气中的至少一种，温度为400~1300℃，压强为10~40Kpa，时间10~120min。

5.如权利要求1所述的衬底的预处理方法，其特征在于，步骤S3中，所述悬浊液由每40~200ml无水乙醇与1~5g金刚石微粉混合后制得。

6.如权利要求5所述的衬底的预处理方法，其特征在于，所述金刚石微粉的规格为W0.25~W5。

7.如权利要求1所述的衬底的预处理方法，其特征在于，步骤S3中，超声接种10~60min。

8.一种权利要求1~7任一项所述衬底的预处理方法在金刚石膜制备过程中的应用，其特征在于，使用所述衬底的预处理方法所得预处理后的衬底沉积金刚石。

9.如权利要求8所述衬底的预处理方法在金刚石膜制备过程中的应用，其特征在于，使用沉积气氛为氢气和甲烷，所述氢气和甲烷的体积比为100：1.5~5.5，沉积压强为9~21kPa，沉积温度为800~920℃。