[发明专利]显示面板及其制作方法、显示装置在审
申请号: | 202111063624.4 | 申请日: | 2021-09-10 |
公开(公告)号: | CN113777836A | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 王海宏;孙语琳 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;南京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 周颖颖 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,以及位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层,其特征在于,所述阵列基板包括阵列基底以及设于所述阵列基底上的多条平行的数据线,所述阵列基底上形成有显示区和围绕所述显示区的周边区,所述数据线从所述显示区延伸至所述周边区,所述周边区包括设有修复线的修复区,每条所述修复线对应多条所述数据线,每条所述数据线在所述阵列基底上的正投影与该数据线对应的修复线在所述阵列基底上的正投影具有两个交叠区域;
所述阵列基板包括与所述液晶层贴合设置的第一配向膜,所述第一配向膜包括第一部分和除所述第一部分之外的第二部分,所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度,所述第一部分在所述阵列基底上的正投影与所述修复区在所述阵列基底上的正投影重合。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一部分的厚度为0.1μm至0.3μm。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二部分的厚度为0.05μm至0.15μm。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板和所述液晶层之间设有第二配向膜,所述第一配向膜和所述第二配向膜在所述阵列基板和所述彩膜基板的对接方向上呈互补结构。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述第一配向膜和所述第二配向膜的相对介电常数为2.5至4.0。
6.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-5任一项所述的显示面板。
7.一种显示面板的制作方法,其特征在于,用于制作权利要求1-5任一项所述的液晶面板,所述方法包括:
形成阵列基板,所述阵列基板包括第一配向膜;
形成彩膜基板;
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒,并在所述阵列基板和所述彩膜基板之间填充液晶层;其中,
所述阵列基板包括阵列基底和位于所述阵列基底上的多条数据线,所述阵列基底上形成有显示区和围绕所述显示区的周边区,所述数据线从所述显示区延伸至所述周边区,所述周边区包括设有修复线的修复区,每条所述修复线对应多条所述数据线,每条所述数据线在所述阵列基底上的正投影与该数据线对应的修复线在所述阵列基底上的正投影具有两个交叠区域;
所述第一配向膜与所述液晶层贴合设置,所述第一配向膜包括第一部分和除所述第一部分之外的第二部分,所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度,所述第一部分在所述阵列基底上的正投影与所述修复区在所述阵列基底上的正投影重合。
8.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述第一部分的厚度为0.1μm至0.3μm。
9.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述第二部分的厚度为0.05μm至0.15μm。
10.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述彩膜基板包括第二配向膜,所述第二配向膜与所述液晶层贴合设置,所述第二配向膜和所述第一配向膜在所述阵列基板和所述彩膜基板的对接方向上呈互补结构。
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