[发明专利]一种真空环境下的网底清洁方法有效

专利信息
申请号: 202111063714.3 申请日: 2021-09-10
公开(公告)号: CN113771490B 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 夏洪伟 申请(专利权)人: 昆山晟丰精密机械有限公司
主分类号: B41F35/00 分类号: B41F35/00
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 李艾
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 环境 清洁 方法
【权利要求书】:

1.一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,包括如下步骤:

连接储液罐、喷液泵和喷嘴,使真空腔体保持大气压状态,调节喷液泵至大气压模式下高频率,第一次启动喷液泵;

喷液泵第一次启动,液体从喷嘴中喷出时,同时关闭喷液泵、喷液电磁阀和喷嘴;

对真空腔体抽真空,调节喷液泵至真空模式下低频率,擦拭机构移动到喷液机构下方,第二次启动喷液泵,其中,所述喷液机构包括喷液泵、喷液电磁阀和喷嘴;

喷液泵第二次启动,擦拭机构沾满喷嘴喷出的液体后,同时关闭喷液泵、喷液电磁阀和喷嘴;

擦拭机构在网底移动进行湿擦;

擦拭完成后,擦拭机构收放卷,移动到喷液机构下方,重复第二次启动喷液泵之后的操作;

其中,储液罐、喷液泵和喷液电磁阀位于大气侧,喷嘴和擦拭机构设置于真空侧。

2.根据权利要求1所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,喷液泵在大气压模式下频率为:3.5HZ-4.5HZ,在真空模式下频率为:0.5HZ-0.2HZ。

3.根据权利要求1所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,湿擦结束后,擦拭机构进行收放卷,而后再次在网底移动进行干擦。

4.根据权利要求1所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,喷液泵第一次和第二次均启动若干秒后,再同时打开喷液电磁阀和喷嘴。

5.根据权利要求4所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,喷液泵第一次和第二次分别启动0.5s-2s后同时打开喷液电磁阀和喷嘴。

6.根据权利要求1所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,擦拭机构移动到喷液机构下方时,调节喷嘴到擦拭机构之间的垂直距离。

7.根据权利要求6所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,调节喷嘴到擦拭机构之间的距离为25mm-35mm。

8.根据权利要求1所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,喷嘴设置有一个,第二次启动喷液泵后,喷嘴通过喷液直线模组沿擦拭机构中擦拭组件长度方向移动,使擦拭机构沾满液体,喷液直线模组的移动速度为200mm/s-250mm/s。

9.根据权利要求1所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,所述喷液电磁阀与喷液机构之间通过大气真空转接板过渡,所述喷液电磁阀的输出端连接所述大气真空转接板的大气侧,所述喷液机构连接所述大气真空转接板的真空侧。

10.根据权利要求1所述的一种真空环境下的网底清洁方法,其特征在于,所述储液罐内存储低饱和蒸气压溶剂。

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