[发明专利]一种电磁脉冲防护薄膜

说明书

本发明公开了一种电磁脉冲防护薄膜，包括PET介质，所述PET介质的顶部与底部均设置有铜铬金属网栅，所述铜铬金属网栅由金属铜单质蒸镀后化学蚀刻形成，所述铜铬金属网栅的内部设置有诱增透复合层，所述铜铬金属网栅的外侧粘黏有保护膜。本发明通过设置铜铬金属网栅，能够在导电条件下对电磁脉冲进行大幅削弱，而且各个频段屏蔽效能强，通过在PET介质的制备过程中设置多个可调控参数，可以依据实际用户需求，达到不同程度的防电磁脉冲指标，解决了现有的屏蔽措施必须对低、中、高频段进行同时屏蔽，而且需要在大量进入电系统的导电通路处安装保护滤波器，当某一个保护滤波器出现损坏时，整个系统就可能被破坏甚至被摧毁的问题。

技术领域

本发明涉及军事野战技术领域，具体为一种电磁脉冲防护薄膜。

背景技术

随着脉冲功率技术的发展，高功率电磁脉冲对电子信息设备的安全构成了严重威胁，基于现代军事平台上密集封装的微电子设备，以及电磁脉冲可以实现非核性，电磁脉冲武器是一种新式的信息系统攻击武器，它是以光速将作用能量射向敌方，强大的电磁脉冲通过电缆、天线或接线柱等途径进入电子系统及设备，产生很高的瞬时感应电压和电流，将电路击穿甚至将电子系统及设备烧毁，致使敌方系统、防空系统及其他军用电子装备瘫痪。

EMP武器的主要对抗措施是用导电或导磁材料制成屏蔽体，将电磁能量限制在一定的空间范围内，使电磁能量从屏蔽体的一面传递到另一面时受到很大削弱，但是现有的屏蔽措施必须对低、中、高频段进行同时屏蔽，而且需要在大量进入电系统的导电通路处安装保护滤波器，当某一个保护滤波器出现损坏时，整个系统就可能被破坏甚至被摧毁。

发明内容

为解决上述背景技术中提出的问题，本发明的目的在于提供一种电磁脉冲防护薄膜，具备降低EMP型号屏蔽难度与生产成本的优点，解决了现有的屏蔽措施必须对低、中、高频段进行同时屏蔽，而且需要在大量进入电系统的导电通路处安装保护滤波器，当某一个保护滤波器出现损坏时，整个系统就可能被破坏甚至被摧毁的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种电磁脉冲防护薄膜，包括PET介质，所述PET介质的顶部与底部均设置有铜铬金属网栅，所述铜铬金属网栅由金属铜单质蒸镀后化学蚀刻形成，所述铜铬金属网栅的内部设置有诱增透复合层，所述铜铬金属网栅的外侧粘黏有保护膜。

3.作为本发明优选的一种电磁脉冲防护薄膜的制造方法，包括步骤a)蒸镀、步骤b)蚀刻、步骤c)涂抹、步骤d)合膜、步骤e)包装：

步骤a)蒸镀：通过真空镀膜技术将金属铜单质蒸镀到蒸镀载体的两侧；

步骤b)蚀刻：通过结构可控的化学蚀刻方式，利用微米级别激光蚀刻机构建出可导电导磁的微米级金属网栅层；

步骤c)涂抹：在经过冷却的薄膜表面涂抹诱增透复合材料，使诱增透复合材料完全填充至铜铬金属网栅的内部并与铜铬金属网栅的高度相互平齐，等待诱增透复合材料干燥成诱增透复合层，获得电磁脉冲防护薄膜产品；

步骤d)合膜：将电磁脉冲防护薄膜产品和两张与电磁脉冲防护薄膜产品宽度相同的保护膜进行同步运输并利用两个压轮将其压覆粘黏；

步骤e)包装：将贴附有保护膜的电磁脉冲防护薄膜产品通过全自动收卷机进行收卷，使其形成若干个带卷并经外观测试后收纳入库。

作为本发明优选的，所述步骤b)蚀刻，微米级金属网栅层的结构为六边形，线宽为5微米，厚度为2微米至40微米。

作为本发明优选的，所述步骤a)蒸镀，选用的PET薄膜厚度介于50微米至200微米之间。

作为本发明优选的，所述步骤b)蚀刻，微米级金属网栅层的附着力大于 4B。

作为本发明优选的电磁脉冲防护薄膜电磁信号的检测方法，包括以下实施例：实施例一正常环境下电磁脉冲防护薄膜对各频段电磁型号的屏蔽；实施例二盐雾环境下电磁脉冲防护薄膜对各频段电磁型号的屏蔽。