[发明专利]大规模天线调测方法、测试设备及计算机设备有效

专利信息
申请号: 202111069181.X 申请日: 2021-09-13
公开(公告)号: CN113824512B 公开(公告)日: 2023-10-10
发明(设计)人: 杨能文;胡成军;许拓;刘毅;林增勇 申请(专利权)人: 中信科移动通信技术股份有限公司
主分类号: H04B17/10 分类号: H04B17/10;H04B17/17;H04B7/06
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张睿
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 大规模 天线 方法 测试 设备 计算机
【说明书】:

发明提供大规模天线调测方法、测试设备及计算机设备,调测方法包括:获取大规模天线的第一子阵列和第二子阵列的各端口幅度和相位信息;判断各子阵列幅度和相位是否合格;通过计算机设备计算出需调测的任一第一子阵列和任一第二子阵列组合后的幅度和相位信息,得到所有合格的匹配数据;采用预设匹配算法得到子阵列间的最佳匹配关系,生成匹配信息库;按匹配关系库信息,进行装配。本发明还提供一种大规模天线调测设备、计算机设备,包括多路矩阵开关、网络分析仪、计算机硬件及应用程序。本发明通过保存产品幅度和相位信息,通过预设匹配算法确定子阵列的组合关系,通过信息化手段来安排生产,减少了调测工作量,提高了生产效率。

技术领域

本发明涉及无线通信技术领域,尤其涉及大规模天线调测方法、测试设备及计算机设备。

背景技术

在5G和未来的6G基站中,大部分都采用了大规模天线,即Massive天线,将射频部分和天线部分整合在了AAU(Active Antenna Unit,有源天线处理单元)中,AAU通过控制天线阵列中各路天线阵元的幅度和相位差来实现信号的波束成型,从而定向提高增益传输,可大幅提升小区频谱效率,提升容量和覆盖范围。

具体地,天线的焊接工艺和装配误差等因素的影响都会加大天线阵列中各端口间的幅度和相位差,进而使得天线阵列发送的信号在到达远场进行波束成型时,各阵元间存在的较大误差致使波束的指向和增益出现偏差并造成天线整体性能的降低。因此,在产品生产、检验过程中会对天线工作频段内各个频点时候各端口幅度和相位进行测试,各端口幅度和相位之间的偏差值必须在规定的允差范围内。Massive天线通常采用64或128甚至更多端口来传输信号,馈电网络极为复杂,需要采用面积较大的PCB来制作馈电网络。由于PCB面积大,制作工艺困难,成本较高,在设计制造过程中将馈电网络分成两部分来设计来降低成本,同时Massive天线也拆分成两个相互独立的第一子阵列和第二子阵列,两者装配在一起构成Massive天线。

如图1所示,Massive天线由第一子阵列和第二子阵列组成,其中P1-Pn为第一子阵列的馈电端口,Q1-Qn为第二子阵列的馈电端口。这两个子阵列各馈电端口的幅度、相位的值呈现在存在一定的分布误差。极有可能出现第一子阵列的P1-Pn端口间幅度和相位偏差值在允差范围内,同时第二子阵列的Q1-Qn端口间幅度和相位偏差值也在允差范围内,但两者装配在一起后,P1-Pn和Q1-Qn端口间幅度和相位偏差值超出允差的情况,所以子阵列之间的匹配成为一项关键步骤。天线工作频段内频点众多,端口众多,正确的调测将减少不合格现象,提高产品的合格率,减少调测工作量,提高了生产效率。

发明内容

本发明提供大规模天线调测方法、测试设备及计算机设备,用以解决现有技术中存在的缺陷。

第一方面,本发明提供大规模天线调测方法,包括:

获取大规模天线的第一子阵列和第二子阵列,分别通过测试设备获取所述第一子阵列和第二子阵列中各端口的幅度信息和相位信息;

若计算判断获取所述幅度信息和所述相位信息合格,则保存所述幅度信息和所述相位信息,并将对应的合格的子阵列做入库处理;

计算获取任一合格第一子阵列和任一个合格第二子阵列进行组合后的全部端口的组合幅度信息以及组合相位信息;

基于所述组合幅度信息和所述组合相位信息,计算获得所有的合格匹配数据;

基于预设匹配算法,由所述合格匹配数据计算得到匹配关系库;

根据所述匹配关系库,获取对应第一子阵列和第二子阵列,进行所述大规模天线的调测装配。

在一个实施例中,所述获取大规模天线的第一子阵列和第二子阵列,分别通过测试设备获取所述第一子阵列和第二子阵列中各端口的幅度信息和相位信息,之后还包括:

若判断获取所述幅度信息和所述相位信息不合格,则将不合格的子阵列产品进行返修。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中信科移动通信技术股份有限公司,未经中信科移动通信技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111069181.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top