[发明专利]偏振无关型可调光衰减器在审

专利信息
申请号: 202111075019.9 申请日: 2021-09-14
公开(公告)号: CN113759460A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 黄北举;张赞允;陈弘达 申请(专利权)人: 苏州微光电子融合技术研究院有限公司
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12
代理公司: 苏州三英知识产权代理有限公司 32412 代理人: 周仁青
地址: 215212 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏振 无关 调光 衰减器
【权利要求书】:

1.一种偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述可调光衰减器包括:

第一二维光栅耦合器及第二二维光栅耦合器,第一二维光栅耦合器用于对第一光信号进行分束,第二二维光栅耦合器用于对光信号进行合束后输出第二光信号,所述第一光信号与第二光信号的的偏振态相同;

若干第一模斑转换器及若干第二模斑转换器,第一模斑转换器与所述第一二维光栅耦合器光通信连接,第二模斑转换器与所述第二二维光栅耦合器光通信连接;

若干第一硅基单模光波导及若干第二硅基单模光波导,用于进行光信号的单模传输,第一硅基单模光波导与所述第一模斑转换器光通信连接,第二硅基单模光波导与所述第二模斑转换器光通信连接;

若干PIN电学结构,用于吸收光信号以实现光信号的衰减,PIN电学结构与所述第一硅基单模光波导及第二硅基单模光波导光通信连接。

2.根据权利要求1所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述第一二维光栅耦合器与第一光纤光通信连接,所述第二二维光栅耦合器与第二光纤光通信连接,所述第一光纤及第二光纤为单模光纤。

3.根据权利要求2所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述第一光纤的接口垂直于第一二维光栅耦合器表面,第一光信号垂直于第一二维光栅耦合器表面并位于第一二维光栅耦合器的中心位置;所述第二光纤的接口垂直于第二二维光栅耦合器表面,第二光信号垂直于第二二维光栅耦合器表面并位于第二二维光栅耦合器的中心位置。

4.根据权利要求1所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述第一二维光栅耦合器为四通道输入耦合器,用于实现第一光信号的四通道均匀分束;所述第二二维光栅耦合器为四通道输出耦合器,用于实现四通道光信号的合束并输出第二光信号。

5.根据权利要求4所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述可调光衰减器包括四个第一硅基单模光波导及四个第二硅基单模光波导,光信号在第一硅基单模光波导中的光程与第二硅基单模光波导中的光程均相等。

6.根据权利要求5所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述第一硅基单模光波导及第二硅基单模光波导包括若干弯曲波导和/或若干直波导。

7.根据权利要求1所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述第一硅基单模光波导及第二硅基单模光波导为硅材料制作而成的脊形波导。

8.根据权利要求1所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,所述PIN电学结构包括:

衬底;

下包层,位于衬底上;

器件层,位于下包层上,所述器件层包括P型掺杂区、N型掺杂区、本征区,所述本征区位于P型掺杂区与N型掺杂区之间;

上包层,位于器件层上;

电极,包括与P型掺杂区电气连接的第一电极及与N型掺杂区电气连接的第二电极;

其中,所述P型掺杂区和N型掺杂区通过本征区相连,本征区中的载流子吸收光信号中光子的能量,以实现光信号的衰减。

9.根据权利要求8所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,

所述P型掺杂区包括若干不同掺杂类型、和/或掺杂范围、和/或掺杂浓度的P型掺杂区,所述N型掺杂区包括若干不同掺杂类型、和/或掺杂范围、和/或掺杂浓度的N型掺杂区;和/或,

所述第一电极和第二电极之间施加有正向电压,以促进载流子的运动。

10.根据权利要求8所述的偏振无关型可调光衰减器,其特征在于,

所述衬底为硅衬底;和/或,

所述下包层和/或上包层为二氧化硅层;和/或,

所述P型掺杂区和N型掺杂区上方的上包层中刻蚀形成有若干通孔,通孔内形成有导电柱,所述第一电极和第二电极分别通过通孔内的导电柱与P型掺杂区和N型掺杂区电气连接;和/或,

所述本征区的高度大于P型掺杂区及N型掺杂区的高度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州微光电子融合技术研究院有限公司,未经苏州微光电子融合技术研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111075019.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top