[发明专利]一种大型高功率真空等离子体处理装置

权利要求书

1.一种大型高功率真空等离子体处理装置，包括底座，其特征是：具有

固定罐体：固定在底座一侧；

移动罐体：可在底座上相对于固定罐体作往复移动，并可与固定罐体形成密闭罐体；

等离子体处理模块：安装在固定罐体与移动罐体之间且可相对移动罐体移动；

控制系统：安装在固定罐体旁侧，用于控制装置运转和监测密闭罐体内部状态；

真空泵：安装在底座旁，用于将密闭罐体抽真空使密闭罐体内部达到处理要求的真空度；

所述的等离子体处理模块包括对称布置的一对物料桶，所述物料桶之间排列有滚筒，一物料桶上的物料往复绕过所述滚筒后缠绕于另一物料桶上，所述滚筒之间安装有产生等离子体的极板，所述的极板连接13.56MHz射频电源实现双输出放电。

2.如权利要求1所述的大型高功率真空等离子体处理装置，其特征是：所述的底座上间距设有一对平行的导轨，移动罐体底部固定有与导轨滑动配合的动滑块，固定罐体底部与固定在长导轨端部的定滑块固接。

3.如权利要求2所述的大型高功率真空等离子体处理装置，其特征是：所述的导轨之一的端部设有控制移动罐体移动到位的限位块，限位块上安装有行程开关。

4.如权利要求2所述的大型高功率真空等离子体处理装置，其特征是：所述移动罐体的筒体内部底侧设有滑动座，滑动座的上平面设有滑轨，所述的移动罐体下方安装有推动其在导轨上往复移动的气缸。

5.如权利要求4所述的大型高功率真空等离子体处理装置，其特征是：所述的等离子体处理模块具有相距设置的左墙板、右墙板，所述物料桶、滚筒转动设置在所述左墙板与右墙板之间，所述极板两侧分别对应与左墙板、右墙板绝缘固接，所述的左墙板底面固定有与所述滑轨滑动配合而实现等离子体处理模块相对于移动罐体作移动的墙板滑块。

6.如权利要求5所述的大型高功率真空等离子体处理装置，其特征是：所述的左墙板、右墙板之间设有连接杆，所述连接杆两端分别与左墙板、右墙板固接，位于连接杆下方设有穿过固定罐体而进入至所述密封罐体内部注入反应的气体的通气管。

7.如权利要求5所述的大型高功率真空等离子体处理装置，其特征是：所述的固定罐体顶部安装有与真空泵管路连接的抽气管，固定罐体左侧底部设有支撑于右墙板底部的墙板支座，固定罐体内设有与右墙板侧面固接的连接板，固定罐体朝向移动罐体侧的法兰面上设有形成密闭罐体时进行密封的密封圈。

8.如权利要求1所述的大型高功率真空等离子体处理装置，其特征是：所述的固定罐体外侧安装有驱动电机，贯穿固定罐体转动设有磁流变密封轴，磁流变密封轴一端与驱动电机传动连接，磁流变密封轴另一端传动连接物料桶。