[发明专利]一种模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置及方法在审
申请号: | 202111087828.1 | 申请日: | 2021-09-16 |
公开(公告)号: | CN113884545A | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 王扬力;袁英;鹿豪杰;王扬;唐军;史俊祥;肖宇 | 申请(专利权)人: | 桂林理工大学 |
主分类号: | G01N27/07 | 分类号: | G01N27/07;G01N27/30;G01N1/14 |
代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人: | 段俊涛 |
地址: | 541004 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模拟 渗透 地层 六价铬 污染 扩散 装置 方法 | ||
1.一种模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,包括带有正面挡板(2)的壳体(1),其特征在于,所述壳体(1)中添加石英砂和/或高岭土用以模拟低渗透地层,所述壳体(1)带有进气口(6)、排水口(10)、若干进水口(8)和若干加药口(9),进水口(8)连接加压水体模拟低渗透地层的所含水分,进气口(6)连接加压气体,以模拟六价铬扩散条件下所需压力,加药口(9)连接药剂添加设备模拟六价铬扩散条件下添加药剂时的污染修复情况,所述壳体(1)的背面挡板(3)设有电阻丝(7)和若干小孔(4),其中电阻丝(7)用于加热模拟低渗透地层原位修复六价铬条件下的温度环境,小孔(4)用于插入电极插头或水质测定探头或进行水体样品采集。
2.根据权利要求1所述模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,其特征在于,所述壳体(1)为不锈钢材质,正面挡板(2)的材质为不锈钢材质,壳体(1)和背面挡板(3)以及正面挡板(2)用螺栓连接且密封,所述小孔(4)共设置上下五排,每排八个,等距分布,所述壳体(1)的下方挡板安装有底部支架(5),底部支架(5)用螺栓固定。
3.根据权利要求1所述模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,其特征在于,所述壳体(1)的左右两侧挡板均布置有进气口(6)、排水口(10)、若干进水口(8)和若干加药口(9),其中进气口(6)在每侧各有一个,位于上部,排水口(10)在每侧有一个,位于下部,进水口(8)和加药口(9)呈多列形式布置,每一列中,进水口(8)和加药口(9)间隔布置。
4.根据权利要求3所述模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,其特征在于,所述进气口(6)直径2cm~3cm,进气口(6)设有套管,进气管通过套管伸入壳体(1),将加压气体注入到壳体(1)中,模拟低渗透地层原位修复环境条件下的压力情况;所述进水口(8)直径2cm~3cm,进水口(8)设有套管,进气管通过套管伸入壳体(1),将加压水体注入到壳体(1)中;所述加药口(9)直径2cm~3cm,加药口(9)设有套管,加药管通过套管伸入壳体(1),所述排水口(10)直径2cm~3cm,排水口(10)设有套管,排水管通过套管伸入壳体(1)。
5.根据权利要求4所述模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,其特征在于,所述进气管上设置有气体增压泵和压力表,所述加压气体为氮气,所述进水管上设置有增压泵,加压水体的压力为0MP~10MP,所述低渗透地层六价铬污染扩散条件下所需压力为1MP~10MP,所述低渗透地层原位修复条件下温度环境为0℃~100℃。
6.根据权利要求4所述模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,其特征在于,所述的低渗透地层填充介质高岭土与石英砂的质量配比为8:1~10:1。
7.根据权利要求4或5所述模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,其特征在于,通过不同位置的进水口(8)进水以模拟低渗透地层六价铬污染扩散中交叉污染的特点;通过不同位置的加药口(9)加药以模拟在不同加药点投药对治理低渗透地层污染的影响和交叉投药的作用以及药物扩散的效果;通过不同高度的加药口(9)加药以模拟在不同低渗透地层的药剂作用范围情况;通过进水管伸入壳体(1)中长度的不同控制进水管的末端位置,从而达到在不同高度、不同点位模拟低渗透地层交叉污染的目的;通过加药管伸入壳体(1)中长度的不同控制加药管的末端位置,从而达到可在不同高度、不同点位模拟观察于低渗透地层中添加不同药剂的作用效果,所述药剂为强化六价铬衰减的药物,或能与六价铬发生反应,进而降解污染物的药物。
8.根据权利要求1所述模拟低渗透地层六价铬污染扩散的槽式装置,其特征在于,所述进水口(8)的开口大小设置为可变,以控制进水流量和进水流速,所述加药口(9)的开口大小设置为可变,以控制进药量和进药速度。
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