[发明专利]一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法

权利要求书

1.一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：单通道母版结构的光刻制备，步骤如下：

S11：将基片清洗干净并在其上旋转涂覆光刻胶材料，使用S1813光刻胶在1200rpm的高速转速下涂覆40s，然后静置2分钟再将其置于90℃热板上加热5分钟，取下冷却至室温，再重复上述工艺过程3次，得到厚度为4.1μm的光刻胶涂层；

S12：使用总宽度为40μm长条形图案掩膜版，其中不透光区域宽度为36μm，且正中间有4μm宽的透光区域，将其与S11中制得的S1813光刻胶涂层紧密接触，并进行光刻曝光，曝光能量125mJ；

S13：将曝光后的基片在5‰的NaOH溶液中进行显影16秒，便可得到宽度为40μm的横截面形状似“凹”字的单通道母版结构；

S2：单通道PDMS诱导模板的制备，步骤如下：

S21：将PDMS本体材料和固化剂按照体积比10:1的比例在烧杯中混合并且搅拌均匀，令该混合液在空气中静置1个小时以充分去除气泡；

S22：将S21中没有气泡的混合液倾倒在S1中制备的单通道母版结构上，并使混合液完全覆盖单通道母版结构，静置1个小时，再将其整体置于65℃热板上加热1个小时使混合液固化；自然冷却至室温后将固化好的PDMS材料从单通道母版结构上揭下，此时便获得了单通道PDMS诱导模板；

S3：微流控芯片上双通道结构的制备，步骤如下：

S31：将S2中制得的单通道PDMS诱导模板与清洗干净的用于制备微流控芯片的基片紧密粘附在一起，这样基片与单通道PDMS诱导模板之间就形成了长条形且横截面形状似“凹”字的单通道空腔；

S32：然后在单通道PDMS诱导模板一侧滴入S1813光刻胶，光刻胶便会在毛细力的作用下流入单通道空腔，静置2个小时使光刻胶液体有足够的时间来填充单通道空腔；

S33：然后将其整体放置在热板上加热，在110℃下加热40分钟，在此过程中，单通道空腔内S1813光刻胶中的溶剂挥发，随着溶剂的挥发，原先已被光刻胶填满的区域从最前端开始缓慢回流，由于单通道PDMS诱导模板内壁与光刻胶之间存在粘附力，与单通道PDMS诱导模板内壁相接触的光刻胶将粘附在空腔内壁上，同时由于单通道PDMS诱导模板内部诱导结构的存在，光刻胶在回流过程中形成了双通道结构，加热40分钟后单通道PDMS诱导模板内壁上的光刻胶将完全固化，此时停止加热并将基片整体冷却至室温，再将单通道PDMS诱导模板揭掉，便在基片表面上制得了双通道结构。

2.根据权利要求书1所述的一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法，其特征在于，所述步骤中使用的基片是硅片、玻璃片、或石英片。