[发明专利]一种空心纳米SiO2

权利要求书

1.一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：包括正硅酸乙酯（TEOS）、氨水、无水乙醇（C₂H₅OH）、吡咯单体、聚乙烯吡咯烷酮（PVP）、六水合氯化铁（FeCl₃·6H₂O）、氢氟酸、高纯氩气、氢氧化铵（NH₃·H₂O）、水（H₂O）。

2.根据权利要求1所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述SiO₂的微球配方组成为：V（TEOS）：V（NH₃·H₂O):V（H₂O）：V（C₂H₅OH）=10:17:12:61。

3.根据权利要求2所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述SiO₂的核壳结构制备过程将SiO₂微球充分分散与无水乙醇中，然后在无水乙醇中加入聚乙烯吡咯烷酮，超声1-3d后离心分离除去多余的聚乙烯吡咯烷酮。

4.根据权利要求3所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述V（SiO₂）：V（C₂H₅OH）：V（PVP）=20:70:10。

5.根据权利要求3所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述将吸附在聚乙烯吡咯烷酮上的SiO₂微球重新分散在300mL的离子水中，然后称取2-4g的FeCl₃·6H₂O溶于上述的悬浮液中，等待15-20min后用在悬浮液中倒入2-3ml的吡咯单体，将加入吡咯单体的悬浮液进行搅拌30-60min后放入恒定温室储放12h。

6.根据权利要求5所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述取出恒定温室内的悬浮液进行过滤，将过滤的物质进行洗涤，最后进行干燥从而得到具有核壳结构的SiO₂。

7.根据权利要求6所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述将具有核壳结构的SiO₂倒入坩埚中，然后盖入盖子放入气氛炉中，氩气的流量为50L/h，以15℃/min升至800℃保持温度3h，然后以10℃/min升至1000℃保持温度6-7h，然后自燃降温到35℃得到半成品。

8.根据权利要求7所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述将半成品用同样体积分数为40％的氢氟酸溶液除去多余的SiO₂。

9.根据权利要求8所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述除去杂质的SiO₂放入马弗炉中，进行加热700-800℃煅烧5-7h，然后除去成品中多余的C即可得到空心纳米SiO₂。

10.根据权利要求1所述的一种空心纳米SiO₂及其合成方法，其特征在于：所述氨水的质量分数为20％-30％。