[发明专利]一种压接型功率半导体结构及其内部压力在线测量方法在审

专利信息
申请号: 202111110073.2 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN113834527A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 任海;冉立;刘立;蒋华平 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: G01D21/02 分类号: G01D21/02
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 杨柳岸
地址: 400044 重*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 压接型 功率 半导体 结构 及其 内部 压力 在线 测量方法
【权利要求书】:

1.一种压接型功率半导体结构,其特征在于,该结构包括多个并列子单元;所述子单元包括顶板(1)、柔性组件、银片(3)、钼片(4)、芯片(5)和基板(6);

所述柔性组件包括碟簧组(21)、导电铜片(22)和基座(23);所述导电铜片(22)的上端位于碟簧组(21)和顶板(1)之间,导电铜片(22)的下端位于碟簧组(21)和基座(23)之间;导电铜片(22)的中间设有薄铜片(221),导电铜片(22)受到外部纵向压力时,在中间的薄铜片(221)上产生横向拉伸应变;

所述薄铜片(221)的侧表面开设有沟槽(2211),所述沟槽(2211)内安装有光纤传感器;所述光纤传感器包括光纤应变计(71)和光纤温度计(72),其中光纤温度计(72)用于光纤应变计(71)的温度补偿;

所述银片(3)的上表面与基座(23)底部连接,银片(3)的下表面与钼片(4)连接;所述芯片(5)的背面与基板(6)连接,芯片(5)的正面与钼片(4)连接。

2.根据权利要求1所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,所述导电铜片(22)和薄铜片(221)的横截面为矩形,所述导电铜片(22)的正向纵截面为封闭形状,其两侧呈拱形或多边形。

3.根据权利要求1所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,所述薄铜片(221)的两侧表面开设有水平贯通的沟槽(2211),两个沟槽(2211)的位置对称;所述光纤应变计(71)和光纤温度计(72)分别固定安装在两个沟槽(2211)内。

4.根据权利要求1或3所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,所述每支光纤应变计(71)和光纤温度计(72)上均集成有光栅(73),光栅(73)的数量和位置与芯片(5)对应。

5.根据权利要求1所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,所述薄铜片(221)中心设有通孔Ⅰ(2212);所述碟簧组(21)由至少一对碟簧串联构成,碟簧组(21)的导杆(211)穿过薄铜片(221)的通孔Ⅰ(2212),导杆(211)的上端与顶板(1)连接,导杆(211)的下端与基座(23)连接。

6.根据权利要求1所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,所述芯片(5)的背面通过真空钎焊或烧结与基板(6)连接,芯片(5)的正面通过机械压力与钼片(4)连接。

7.根据权利要求5所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,所述芯片(5)为IGBT或FRD。

8.根据权利要求1所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,该结构还包括外壳,多个并列子单元位于外壳内;所述外壳上集成有光纤接口,各支光纤传感器与光纤接口连接。

9.根据权利要求1~8中任意一项所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,该半导体结构内部压力的在线测量方法,具体包括以下步骤:

S1:制作并封装压接型功率半导体模块,安装光纤应变计和光纤温度计;

S2:在参考温度下,对光纤应变计进行压力标定:给安装有光纤传感器的压接型功率半导体模块施加不同机械压力,记录光纤应变计输出信号变化,建立光纤应变计的压力灵敏度方程;

S3:不施加外部压力,对光纤温度计和光纤应变计进行温度标定:将未施加压力的压接型功率半导体模块置于温箱中,设置不同的环境温度,分别记录光纤温度计和光纤应变计的输出信号变化,建立其温度灵敏度方程;

S4:结合S2和S3的灵敏度标定结果,建立光纤应变计的压力-温度灵敏度方程;

S5:压接型功率半导体模块运行时,在线测量其内部压力;同时记录光纤应变计和光纤温度计输出信号;由记录的光纤温度计输出信号,根据S3中光纤温度计的温度灵敏度方程,计算出薄铜片沟槽温度;由记录的光纤应变计输出信号,以及薄铜片沟槽温度,根据S4中光纤应变计的压力-温度灵敏度方程,计算实时压力。

10.根据权利要求9所述的压接型功率半导体结构,其特征在于,步骤S4中建立的光纤应变计的压力-温度灵敏度方程为:

其中,ΔλB为布拉格波长变化量,λB为参考布拉格波长,KT为光纤应变计的等效温度灵敏度系数,kP为压力灵敏度系数,ΔT为温度变化量,ΔP为压力变化量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆大学,未经重庆大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111110073.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top