[发明专利]一种增强有机半导体薄膜聚集态稳定性的方法有效
申请号: | 202111110113.3 | 申请日: | 2021-09-23 |
公开(公告)号: | CN113571638B | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 李立强;陈小松;戚建楠;胡文平 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | H01L51/40 | 分类号: | H01L51/40;H01L51/05 |
代理公司: | 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 | 代理人: | 李艳芬 |
地址: | 300072 天津市南开区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 增强 有机半导体 薄膜 聚集 稳定性 方法 | ||
1.一种增强有机半导体薄膜聚集态稳定性的方法,其特征在于,在绝缘衬底表面构筑有机半导体薄膜,然后在构筑的有机半导体薄膜表面或薄膜内部引入纳米粒子,所述纳米粒子均匀且不连续,所述纳米粒子体积分数占有机半导体薄膜体积的0.1%-3%。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,包括制备栅极导电电极。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述有机半导体薄膜为多晶薄膜。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述有机半导体薄膜是有机小分子半导体或有机聚合物半导体。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述纳米粒子直径在0.01nm-100nm之间。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述纳米粒子包括金属导体粒子、有机及无机半导体粒子或绝缘体粒子中的一种。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括图案化制备源、漏电极。
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