[发明专利]一种增强有机半导体薄膜聚集态稳定性的方法有效

专利信息
申请号: 202111110113.3 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113571638B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 李立强;陈小松;戚建楠;胡文平 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H01L51/05
代理公司: 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 代理人: 李艳芬
地址: 300072 天津市南开区*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 增强 有机半导体 薄膜 聚集 稳定性 方法
【权利要求书】:

1.一种增强有机半导体薄膜聚集态稳定性的方法,其特征在于,在绝缘衬底表面构筑有机半导体薄膜,然后在构筑的有机半导体薄膜表面或薄膜内部引入纳米粒子,所述纳米粒子均匀且不连续,所述纳米粒子体积分数占有机半导体薄膜体积的0.1%-3%。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,包括制备栅极导电电极。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述有机半导体薄膜为多晶薄膜。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述有机半导体薄膜是有机小分子半导体或有机聚合物半导体。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述纳米粒子直径在0.01nm-100nm之间。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述纳米粒子包括金属导体粒子、有机及无机半导体粒子或绝缘体粒子中的一种。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括图案化制备源、漏电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学,未经天津大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111110113.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top