[发明专利]一种用于光纤预制棒包层沉积的供料装置

说明书

本申请涉及一种用于光纤预制棒包层沉积的供料装置，其包括蒸发罐、液体分布器、刮膜机构和加热机构，蒸发罐上组设有D4液体进料管和D4蒸汽出料管；液体分布器位于蒸发罐内，液体分布器上开设有与D4液体进料管连通的若干布料孔，布料孔用于供D4液体流至蒸发罐内壁上；刮膜机构包括刮膜板，刮膜板位于蒸发罐内，并用于将蒸发罐内壁上的D4液体刮涂成液膜；加热机构组设于蒸发罐外，并用于加热蒸发罐。本申请能够解决相关技术中存在蒸发器蒸发量小、D4蒸汽输出一致性和均匀性差的问题。

技术领域

本申请涉及光纤预制棒制造技术领域，特别涉及一种用于光纤预制棒包层沉积的供料装置。

背景技术

随着光纤光缆市场逐渐趋于饱和，如何降低产业链上游光纤预制棒的制造成本成为各大厂商提升产品竞争力的重要手段。而光纤预制棒的制造成本很大一部分取决于外包层的制备，因此，选用环保低成本的原材料以及光棒尺寸的大型化是当前OVD外包层沉积技术的发展趋势。D4(八甲基环四硅氧烷)因为不含卤素且本身性能稳定、含硅量高，沉积转换效率高、尾气处理工艺简单，相比于传统的SiCl₄工艺具有明显的成本优势。而且，随着安全生产以及环保要求的收紧，以绿色低成本的D4为新型原材料的大尺寸OVD外包层制造工艺得到光纤预制棒企业广泛应用。

然而在实践应用过程中，OVD设备普遍采用D4先雾化为液滴再闪蒸汽化的供料方式，D4液滴在高温加热下的金属管上快速汽化形成D4蒸汽，此过程中D4液滴汽化的温度和压力波动较大，致使连续输出的D4蒸汽一致性和均匀性较差。

此外，由于采用盘管加热闪蒸的蒸发器蒸发量小，难以满足高速OVD沉积技术对大流量供料的需求，因此普遍采用多台蒸发器对应多喷灯沉积技术，然而不同蒸发器加工精度及加热保温的差异，导致不同蒸发器输出的D4蒸汽一致性较差。

不仅如此，由于D4原料中杂质的存在，以及在高热环境下D4类物质自身存在开环聚合反应的倾向，导致D4在工艺实践中，蒸发器管道及蒸汽输送管道容易被高沸点杂质及开环聚合反应生成的大分子凝胶堵塞污染，从而导致OVD沉积均匀性急速恶化。另外，供料装置管道内的高沸点杂质及大分子凝胶与金属管壁结合紧密，导致不能及时获知内部情况，清洗、维护也较为困难。

发明内容

本申请实施例提供一种用于光纤预制棒包层沉积的供料装置，以解决相关技术中存在蒸发器蒸发量小、D4蒸汽输出一致性和均匀性差的问题。

本申请实施例提供了一种用于光纤预制棒包层沉积的供料装置，其包括：

蒸发罐，其上组设有D4液体进料管和D4蒸汽出料管；

液体分布器，其位于所述蒸发罐内，所述液体分布器上开设有与所述D4液体进料管连通的若干布料孔，所述布料孔用于供D4液体流至所述蒸发罐内壁上；

刮膜机构，其包括刮膜板，所述刮膜板位于所述蒸发罐内，并用于将所述蒸发罐内壁上的D4液体刮涂成液膜；

加热机构，其组设于所述蒸发罐外，并用于加热蒸发罐。

一些实施例中，所述蒸发罐呈圆筒状，所述液体分布器包括与所述D4液体进料管连通的圆环管，所述圆环管外边缘开设有所述布料孔，且其中部用于供D4蒸汽经过，并进入所述D4蒸汽出料管；或者，

所述蒸发罐呈圆筒状，所述液体分布器包括圆环板和环形挡板，所述环形挡板设于所述圆环板内壁上，所述环形挡板内壁所形成的通道用于供D4蒸汽经过，并进入所述D4蒸汽出料管，所述圆环板外边缘开设有所述布料孔，所述D4液体进料管的出口朝向由所述蒸发罐内壁、圆环板和环形挡板所形成的料槽。

一些实施例中，所述蒸发罐呈圆筒状；

所述刮膜机构还包括驱动器和转子，所述转子的两端分别与所述驱动器和刮膜板相连接，所述驱动器组设于所述蒸发罐上，并用于驱动所述转子自转，以带动所述刮膜板工作。