[发明专利]一种InGaN掺杂性能的仿真方法在审

专利信息
申请号: 202111114854.9 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113919143A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 单恒升;刘胜威;梅云俭;徐超明;郝晓东;马淑芳;许并社 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F119/02
代理公司: 西安鼎迈知识产权代理事务所(普通合伙) 61263 代理人: 李振瑞
地址: 710000*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 ingan 掺杂 性能 仿真 方法
【权利要求书】:

1.一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,包括:

构建GaN晶体模型;

对所述GaN晶体模型的原胞进行扩建,形成超胞;

对所述超胞中的Ga原子使用In原子在不同位置上进行替换,以对所述超胞进行掺杂;

对掺杂后的所述超胞进行优化;

对优化后的所述超胞进行性质模拟,获得In原子掺杂下的InGaN合金的特性数据文件;

对所述特性数据文件进行分析,获得InGaN合金材料的性能数据。

2.根据权利要求1所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,所述构建GaN晶体模型,包括:

利用Materials Studio软件构建正交相的所述GaN晶体模型。

3.根据权利要求1所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,对所述GaN晶体模型的原胞进行扩建,形成超胞后,所述方法还包括:

利用CASTEP模块对所述超胞进行优化,获得能量最低且处于稳定状态下的所述超胞。

4.根据权利要求1所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,所述对所述超胞中的Ga原子使用In原子在不同位置上进行替换,以对所述超胞进行掺杂,包括:

对所述超胞中的Ga原子进行相同浓度不同位置的In原子替换,实现对所述超胞的掺杂。

5.根据权利要求1所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,所述对掺杂后的所述超胞进行优化,包括:

对掺杂后的所述超胞使用CASTEP模块进行结构优化和晶胞优化,获得能量最低且处于稳定状态的所述超胞。

6.根据权利要求1所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,所述对优化后的所述超胞进行性质模拟,获得In原子掺杂下的InGaN合金的特性数据文件,包括:

利用CASTEP模块对优化后的所述超胞进行性质模拟,获得所述特性数据文件。

7.根据权利要求6所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,所述特性数据文件包括In原子掺杂下的InGaN合金的能带结构、分态密度、弹性模量和热力学性质的特性数据文件。

8.根据权利要求1所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,所述对所述特性数据文件进行分析,获得InGaN合金材料的性能数据,包括:

利用CASTEP模块对所述特性数据文件进行分析,获得InGaN合金材料的性能数据。

9.根据权利要求8所述的一种InGaN掺杂性能的仿真方法,其特征在于,所述性能数据包括能带图、DOS图、PDOS图、热力学性质曲线和自由能曲线。

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