[发明专利]偏光片制备方法、偏光片及显示装置在审
| 申请号： | 202111121330.2 | 申请日： | 2021-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN113759457A | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 林仲宏;李明阳;王琬珺 | 申请（专利权）人： | 业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14 |
| 代理公司： | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人： | 杨冬梅;张行知 |
| 地址： | 611730 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏光 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种偏光片制备方法，其特征在于，所述偏光片制备方法包括以下步骤：
提供一聚乙烯醇薄膜，所述聚乙烯醇薄膜设有留白区；
在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层；
利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色；
其中，所述遮挡层阻挡染色剂对所述留白区染色，以使所述留白区的透光率大于预设值。
2.根据权利要求1所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇薄膜具有相对的第一侧和第二侧；
所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层具体包括：
在所述聚乙烯醇薄膜的第一侧设置第一遮挡层，在所述聚乙烯醇薄膜的第二侧设置第二遮挡层。
3.根据权利要求2所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为永久遮挡；
所述第一遮挡层和所述第二遮挡层透光设置，且所述第一遮挡层和所述第二遮挡层不被染色剂染色。
4.根据权利要求3所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述第一遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合，所述第二遮挡层在所述聚乙烯醇薄膜上的投影与所述留白区重合。
5.根据权利要求2所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述第一遮挡层和所述第二遮挡层均被配置为临时遮挡；
所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括：
将所述第一遮挡层和所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下；或者
所述第一遮挡层被配置为永久遮挡；
所述第一遮挡层透光设置，且不被染色剂染色；
所述第二遮挡层被配置为临时遮挡；
所述利用染色剂对设有所述聚乙烯醇薄膜进行染色之后还包括：
将所述第二遮挡层从所述聚乙烯醇薄膜表面揭下。
6.根据权利要求1所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述遮挡层的厚度大于或等于10nm；和/或
所述遮挡层包括耐高温防水保护膜。
7.根据权利要求1至6任一项所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白区设置遮挡层的步骤具体包括：
在所述聚乙烯醇薄膜的留白区贴附遮挡层；或者
在所述聚乙烯醇薄膜的留白区涂布遮挡层。
8.根据权利要求1至6任一项所述的偏光片制备方法，其特征在于，所述预设值大于80％。
9.一种偏光片，其特征在于，所述偏光片采用如权利要求1至8任一项所述的偏光片制备方法制成。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的偏光片。
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