[发明专利]一种砷化镓/石墨烯复合超材料太赫兹宽带吸收器有效

专利信息
申请号: 202111126379.7 申请日: 2021-09-26
公开(公告)号: CN113809544B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 张铭;孟宪睿;王如志;王长昊;席宇鹏;李赛楠;张持 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00;H01Q17/00;G02B5/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 砷化镓 石墨 复合 材料 赫兹 宽带 吸收
【权利要求书】:

1.一种砷化镓/石墨烯复合动态可调宽带太赫兹超材料吸收器,其特征在于,该吸收器每个结构单元由上下两部分叠加而成,上部分包括砷化镓/石墨烯超材料层,中间介电层,下层GaAs层;下部分包括十字石墨烯层,介电层和底层金属反射层;所述金属反射层为一层连续的金属薄膜,材料为金、银、铝或铜;介质层位于金属反射层和石墨烯层之间,为二氧化硅,相对介电常数为3~4之间,介质层的厚度为10~16μm;

石墨烯层的化学势在0.1~0.9eV之间,石墨烯层的厚度为0.7~1.8nm;砷化镓/石墨烯超材料层中的上层十字石墨烯径长为56~68μm,径宽为7~15μm,下部分的石墨烯层的十字石墨烯径长为70~75μm,径宽为18~24μm;上层十字石墨烯层四周分布四个同大小的GaAs方框,四个同大小的GaAs方框分别在十字石墨烯划分的四个区域;采用波长为800nm的泵浦光激发GaAs方框,使GaAs材料的电导率在4000~200000S/m之间变化,每个GaAs方框的外框长为23μm,内框长为17μm;该结构单元的晶格周期为65~85μm。

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