[发明专利]真空环境下的低温吸附与再生系统有效

专利信息
申请号: 202111137191.2 申请日: 2021-09-27
公开(公告)号: CN113975928B 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 朱煜;张鸣;文振武;成荣;刘相波;殷凤志 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B01D53/02 分类号: B01D53/02
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 李平;杨桦
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 真空 环境 低温 吸附 再生 系统
【权利要求书】:

1.一种真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于:包括主腔室、工件台、冷板、再生系统、真空系统和制冷系统;其中,

所述工件台和所述冷板设置在所述主腔室内;

所述再生系统设置在所述冷板外围,用于所述冷板的再生;

所述真空系统设置在所述主腔室的顶部外侧,用于对所述主腔室抽真空;

所述制冷系统对称设置在所述主腔室的外侧面,用于对所述冷板进行低温控制,

所述再生系统包括再生腔室、薄膜展开系统、冷却气体管道、再生加热系统以及气体回收泵;其中,

所述再生腔室的顶部和底部为敞口,所述冷板设置在所述再生腔室的中央位置;

所述薄膜展开系统用于所述冷板再生过程中封闭所述再生腔室;

所述冷却气体管道设置在所述冷板的侧面,用于将所述制冷系统的低温气体通入所述冷板内部;

所述再生加热系统包括热气体管道和电加热丝;

所述气体回收泵设置在所述主腔室的底部外侧,并通过泵管道与所述冷板连通,以回收所述冷板再生过程中的再生气体,

所述薄膜展开系统包括卷轴、电机、薄膜和密封机构;其中,

所述卷轴设置有两个,且对称设置在所述再生腔室一侧,用于收纳封闭所述再生腔室的薄膜;

所述电机用于驱动所述卷轴转动;所述薄膜设置在所述再生腔室的上下表面,所述薄膜包括矩形封闭膜和窄条工作膜;

所述密封机构设置在所述再生腔室的顶部和底部,通过伸缩下压所述薄膜实现对所述冷板的密封。

2.如权利要求1所述的真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于,

在所述冷板的内部设置有S型管道,在所述冷板的表面设置有温度传感器,所述冷板为偶数个,数量至少为两个,所述冷板在所述工件台的下方沿所述主腔室的中心线对称设置。

3.如权利要求1所述的一种真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于,所述热气体管道和所述冷却气体管道设置在所述冷板的同侧,所述热气体管道用于传输温度较高的气体,在所述主腔室1的外侧通过管道连接到热气体罐;所述电加热丝设置在所述冷板的上下表面。

4.如权利要求1所述的一种真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于,所述矩形封闭膜的长度范围和宽度范围均为100mm~500mm,所述窄条工作膜的宽度范围为10mm~50mm,长度范围为100mm~500mm。

5.如权利要求1所述的一种真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于,所述冷却气体管道包括冷却气体入口管道和冷却气体出口管道,管道中运输的气体包括液氮、液氦、液氧。

6.如权利要求1所述的一种真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于,所述气体回收泵包括机械泵、分子泵、低温泵。

7.如权利要求1所述的一种真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于,所述真空系统包括真空泵、真空计,所述真空泵沿所述主腔室中心线对称设置,所述真空计设置在所述主腔室内侧壁上。

8.如权利要求1所述的一种真空环境下的低温吸附与再生系统,其特征在于,所述制冷系统包括液态气体罐、液态气体压缩机。

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