[发明专利]一种超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法

权利要求书

1.一种超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法，包括以下步骤，将自修整冻干抛光轮装在抛光机上，然后对金刚石晶圆进行抛光加工，完成抛光，得到表面粗糙度为pm级的金刚石晶圆，其特征在于，由冻干抛光块与基体复合得到自修整冻干抛光轮；所述冻干抛光块由凝胶抛光体经过真空干燥与冷冻干燥制备，所述凝胶抛光体的制备方法包括如下步骤，将海藻酸钠、黄原胶与水混合，得到混合物1；将锦纶粉末、浆粕、金刚石磨料与水混合，得到混合物2；再将混合物1与混合物2混合搅拌后倒入模具，再浸入钙盐溶液，取出后，得到凝胶抛光体；海藻酸钠、黄原胶、锦纶粉末、浆粕、金刚石磨料、水的质量比为（15～25）∶（3～8）∶（30～70）∶（100～150）∶（30～70）∶1200；真空干燥时，真空度为800～1200Pa，时间为2.5～4小时，温度为40～60℃；冷冻干燥时，真空度为1～50 Pa，4～6小时降至-80～-60℃，然后保持20～30小时。

2.根据权利要求1所述超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法，其特征在于，海藻酸钠、黄原胶、锦纶粉末、浆粕、金刚石磨料、水的质量比为（18～22）∶（4～6）∶（40～60）∶（110～130）∶（40～60）∶1200。

3.根据权利要求1所述超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法，其特征在于，浸入钙盐溶液的时间为100～150分钟；钙盐溶液中，钙盐浓度为0.1～1wt%。

4.根据权利要求1所述超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法，其特征在于，钙盐溶液为氯化钙水溶液。

5.根据权利要求1所述超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法，其特征在于，抛光加工时，转速为20～100rpm，时间为2～7小时，压力为100～500kg。

6.根据权利要求5所述超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法，其特征在于，抛光加工时，转速为30～70rpm，时间为2.5～5小时，压力为150～300kg。

7.根据权利要求1所述超精密高质量抛光金刚石晶圆的方法加工制备的超精密高质量抛光金刚石晶圆。

8.根据权利要求7所述的超精密高质量抛光金刚石晶圆，其特征在于，所述超精密高质量抛光金刚石晶圆的表面粗糙度小于100pm。