[发明专利]一种红铜金色PVD装饰薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种红铜金色PVD装饰薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

在基材表面制备打底层；

在所述打底层上制备至少一层过渡层；

在所述过渡层上制备颜色层；

在所述颜色层上制备干涉层，以产生光的干涉，所述颜色层反射的光经过干涉层后，颜色a值和颜色b值分别增加，使基材表面呈现红铜金色。

2.根据权利要求1所述的红铜金色PVD装饰薄膜的制备方法，其特征在于：所述颜色层的颜色a值为8～11，颜色b值为12～18；所述颜色层反射的光经过所述干涉层后，颜色a值为15～22，颜色b值为25～35。

3.根据权利要求1或2所述的红铜金色PVD装饰薄膜的制备方法，其特征在于：所述颜色层的材质为金属碳氮化合物，该金属碳氮化合物包括碳氮化锆或碳氮化钛；所述颜色层的厚度为0.1～0.25μm。

4.根据权利要求1或2所述的红铜金色PVD装饰薄膜的制备方法，其特征在于：所述干涉层的材质为氧化物，该氧化物包括氧化钛、氧化锆、氧化硅中的任意一种，所述干涉层的厚度为80～200nm。

5.根据权利要求1所述的红铜金色PVD装饰薄膜的制备方法，其特征在于：所述打底层的材质为金属，所述过渡层的材质为金属或金属氮化物，所述金属为锆、铬、钛中的任意一种，所述金属氮化物为氮化锆、氮化铬、氮化钛中的任意一种；所述打底层和所述过渡层的厚度总和为200～500nm。

6.根据权利要求1所述的红铜金色PVD装饰薄膜的制备方法，其特征在于：所述打底层、过渡层、颜色层和干涉层在镀膜过程中的工艺参数为：镀膜本底真空度大于或等于0.005pa，工作气体为氩气，镀膜真空度为0.2～0.5pa，电弧靶电流为80-100A，中频电流为20-40A，偏压为30～300V；所述过渡层、颜色层和干涉层在镀膜过程中的反应气体为氮气、乙炔、氧气中的任意一种或几种。

7.根据权利要求1所述的红铜金色PVD装饰薄膜的制备方法，其特征在于：所述打底层使用电弧离子镀沉积得到，所述打底层的沉积时间为80-100min；所述过渡层使用电弧离子镀沉积得到，所述过渡层的沉积时间为110-130min；所述颜色层使用电弧离子镀沉积得到，所述颜色层的沉积时间为150-300min；所述干涉层使用磁控溅射沉积得到，所述干涉层的沉积时间为150-300min。

8.一种红铜金色PVD装饰薄膜，其特征在于：包括位于基材表面的打底层、位于打底层表面的至少一层过渡层、位于过渡层表面的颜色层和位于颜色层表面的干涉层，所述颜色层反射的光经过干涉层后颜色a值和颜色b值分别增加，使基材表面呈现红铜金色。

9.根据权利要求8所述的红铜金色PVD装饰薄膜，其特征在于：所述颜色层的颜色a值为8～11，颜色b值为12～18；所述颜色层反射的光经过所述干涉层后，颜色a值为15～22，颜色b值为25～35。

10.根据权利要求8或9所述的红铜金色PVD装饰薄膜，其特征在于：所述颜色层的材质为金属碳氮化合物，该金属碳氮化合物包括碳氮化锆或碳氮化钛；所述颜色层的厚度为0.1～0.25μm；所述干涉层的材质为氧化物，该氧化物包括氧化钛、氧化锆、氧化硅中的任意一种，所述干涉层的厚度为80～200nm；

所述打底层的材质为金属，所述过渡层的材质为金属或金属氮化物，所述金属为锆、铬、钛中的任意一种，所述金属氮化物为氮化锆、氮化铬、氮化钛中的任意一种；所述打底层和所述过渡层的厚度总和为200～500nm；

所述打底层、过渡层和颜色层分别使用电弧离子镀沉积得到，所述干涉层使用磁控溅射沉积得到。