[发明专利]一种高浓度臭气处理工艺

权利要求书

1.一种高浓度臭气处理工艺，采用生物过滤工艺对高浓度臭气进行处理，其特征在于，过滤箱中分为三个独立的腔室，按照臭气进入顺序，腔室中生物填料的微生物菌株的组合比例不同，腔室中设置H₂S和NH₃浓度监测仪，处理工艺包括以下步骤：

S1、高浓度臭气通入过滤箱内的第一腔室，第一腔室中生物填料中的微生物包括光合细菌、硝化细菌、巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌，其中光合细菌和硝化细菌的含量小于巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌的总含量，监测腔室中H₂S和NH₃的浓度；

S2、待第一腔室中H₂S的浓度降低至初始浓度的50％时，将第一腔室中的气体输送至第二腔室，关闭第一腔室与第二腔室间的管路后，继续向第一腔室中输送高浓度臭气，第二腔室中生物填料中的微生物包括光合细菌、硝化细菌、巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌，其中光合细菌和硝化细菌的含量大于第一腔室中的含量，巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌的含量小于第一腔室中的含量，监测腔室中H₂S和NH₃的浓度；

S3：待第二腔室中H₂S的浓度降低至初始浓度的30％时，将第二腔室中的气体输送至第三腔室，关闭第二腔室与第三腔室间的管路后，继续向第二腔室中输送来自第一腔室中的处理气体，第三腔室中生物填料中的微生物包括光合细菌、硝化细菌、巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌，其中，光合细菌和硝化细菌的含量大于第二腔室中的含量，巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌的含量小于第二腔室中的含量，监测腔室中H₂S和NH₃的浓度；

S4：待第三腔室中H₂S的浓度降低至初始浓度的20％以下时，将第三腔室中的处理气体排出过滤箱；第一、第二、第三腔室中生物填料中的微生物重量比为7％。

2.根据权利要求1所述的高浓度臭气处理工艺，其特征在于：第一腔室中光合细菌、硝化细菌、巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌的质量比例为1:1.7:2:2.5:2。

3.根据权利要求1所述的高浓度臭气处理工艺，其特征在于：第二腔室中光合细菌、硝化细菌、巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌的质量比例为1.5:2:1.5:2:1.5。

4.根据权利要求1所述的高浓度臭气处理工艺，其特征在于：第三腔室中光合细菌、硝化细菌、巨大芽孢杆菌、嗜酸乳杆菌、粪产碱杆菌的质量比例为2:2.5:1:1.5:1。

5.根据权利要求1所述的高浓度臭气处理工艺，其特征在于：第一、第二、第三腔室中设置温度计和温控装置，保持腔室中的温度为29-32℃。