[发明专利]一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法在审
| 申请号： | 202111141211.3 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN113979785A | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 谢志军;赵存河;刘忠良;卢洋华 | 申请（专利权）人： | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89;C04B41/86;C03C8/00;C03C8/14;B28B11/04;B28B11/06;B28B11/00;B44C5/04;B44F9/10 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;牛彦存 |
| 地址： | 528211 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 金属 纹理 抛釉砖 及其 制备 方法 | ||
1.一种具有金属纹理的抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
在砖坯表面施底釉；
在施底釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；
在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施全抛釉；
在施全抛釉后的砖坯表面丝网印刷金属干粒釉；
将丝网印刷金属干粒釉后的砖坯经过烧成并抛光，得到所述具有金属纹理的抛釉砖。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述全抛釉的化学成分包括：以质量百分比计，SiO2：46-58%；Al2O3：12-15%；CaO：5.5-7.5%；MgO：5.5-7.0%；K2O：3.0-5.0%；Na2O：2.5-4.5%；ZnO：8.0-10.0%。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述全抛釉的比重为1.84-1.85g/cm3，施釉量为500-600g/m2。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，烧成后全抛釉的莫氏硬度不低于3级。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述金属干粒釉的原料组成包括：以重量份计，金属干粒45-100份，下陷釉10-30份，印膏70-100份，水10-20份；优选地，下陷釉占金属干粒的质量百分比为20-40%。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述下陷釉的化学成分包括：以质量百分比计，PbO：30-45%；SiO2：25-40%；Al2O3：10-14%；CaO：3-5%；V2O5：1-2%；K2O：1-3%；ZnO：0.9-3%。
7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，所述金属干粒的粒径为100-200目；优选地，所述金属干粒的颗粒级配包括：以质量百分比计，100-120目：10-20%，120-160目：70-85%，160-200目：5-10%。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的制备方法，其特征在于，烧成后金属干粒釉中金属干粒的底部下陷到全抛釉中且顶部浮出全抛釉层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，金属干粒的顶部浮出全抛釉层的高度为0.3-0.6mm。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的制备方法获得的具有金属纹理的抛釉砖。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蒙娜丽莎集团股份有限公司，未经蒙娜丽莎集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111141211.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
