[发明专利]胶囊内窥镜系统有效
申请号: | 202111156076.X | 申请日: | 2019-10-28 |
公开(公告)号: | CN113693544B | 公开(公告)日: | 2023-06-13 |
发明(设计)人: | 刘浏;彭璨;夏然 | 申请(专利权)人: | 深圳硅基智控科技有限公司 |
主分类号: | A61B1/273 | 分类号: | A61B1/273;A61B5/06;A61B1/04;A61B1/045;A61B5/07;A61B1/31 |
代理公司: | 深圳舍穆专利代理事务所(特殊普通合伙) 44398 | 代理人: | 邱爽 |
地址: | 518000 广东省深圳市新安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 胶囊 内窥镜 系统 | ||
1.一种胶囊内窥镜系统,其特征在于,包括:胶囊内窥镜、磁控装置、磁传感器模块以及处理模块,所述胶囊内窥镜为胶囊形状并被导入组织腔体内,所述胶囊内窥镜包括第一磁体、姿态传感器和用于测量所述胶囊内窥镜与所述组织腔体的内壁的距离的激光测距传感器;所述磁控装置通过磁场对所述胶囊内窥镜进行控制,以使所述胶囊内窥镜在所述组织腔体内移动和/或旋转,当所述磁控装置控制所述胶囊内窥镜以具有的摄像装置的一端为支点并以与竖直方向成预设角度旋转时,所述激光测距传感器测量多个所述距离;所述磁传感器模块检测所述组织腔体未导入所述胶囊内窥镜时由所述磁控装置在第一位置产生的第一磁感应强度,所述胶囊内窥镜被导入所述组织腔体后由所述磁控装置在所述第一位置和所述第一磁体产生的第二磁感应强度;所述处理模块获取在所述第一磁体相对于所述磁传感器模块的定位位置测量到的多个所述距离和所述胶囊内窥镜在所述定位位置与所述组织腔体的预设模型的内壁相距的多个参考距离进行比对,以更新所述预设模型并作为所述组织腔体的三维模型。
2.如权利要求1所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
所述胶囊内窥镜还包括设置在端部的透明外壳,所述姿态传感器用于测量所述胶囊内窥镜的姿态,所述激光测距传感器设置在所述透明外壳所在端部。
3.如权利要求2所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
由所述激光测距传感器发射的激光经由所述透明外壳而射出至所述组织腔体的内壁,并且所述激光测距传感器在预定时间内不接收反射的激光。
4.如权利要求1所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
所述处理模块获取由所述磁传感器模块感应的所述第一磁感应强度、所述第二磁感应强度以及所述第一磁体的磁偶极子模型来计算所述胶囊内窥镜的所述第一磁体相对于所述磁传感器模块的定位位置。
5.如权利要求4所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
所述处理模块基于所述第一磁感应强度和所述第二磁感应强度来计算所述磁传感器模块感应的来自所述胶囊内窥镜产生的第三磁感应强度,并且根据所述第三磁感应强度算出所述胶囊内窥镜的所述第一磁体相对于所述磁传感器模块的位置。
6.如权利要求5所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
所述处理模块基于所述第一磁体的磁偶极子模型和所述胶囊内窥镜的在所述组织腔体内的预设坐标,计算所述胶囊内窥镜在所述预设坐标时由所述磁传感器模块的各个磁传感器感应的来自所述第一磁体的第四磁感应强度,将所述第三磁感应强度与所述第四磁感应强度进行对比以修正所述预设坐标,并且令在预定误差内的所述预设坐标为所述胶囊内窥镜的定位位置。
7.如权利要求1所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
所述磁传感器模块与所述磁控装置分别位于所述组织腔体两侧。
8.如权利要求1所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
所述磁控装置包括第一感应线圈和第二磁体,所述第一感应线圈布置于与第二磁体相同的一侧,以及包括布置在与第一感应线圈不同侧的第二感应线圈。
9.如权利要求1所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
所述磁控装置还包括第三线圈,所述第三线圈产生作用于所述胶囊内窥镜的磁力,以使所述胶囊内窥镜固定在所述组织腔体内的预定位置。
10.如权利要求8所述的胶囊内窥镜系统,其特征在于,
通过改变所述第一感应线圈的电流大小控制可变磁场的大小,同时通过改变所述第一感应线圈相对于所述第一磁体的相对位置控制所述可变磁场的方向。
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