[发明专利]显示装置在审

专利信息
申请号: 202111156257.2 申请日: 2021-09-29
公开(公告)号: CN113764602A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 侯鹏;齐璞玉;徐元杰;黄炜赟;张宇 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李弘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,其特征在于,包括:

衬底基板,包括第一显示区和第二显示区,所述第二显示区至少部分围绕所述第一显示区;

多个像素电路,位于所述衬底基板的一侧;

多个发光单元,位于所述多个像素电路远离所述衬底基板的一侧,所述多个发光单元包括位于所述第一显示区的多个第一发光单元和位于所述第二显示区的多个第二发光单元;

彩膜层,位于所述多个发光单元远离所述衬底基板的一侧,包括设置于所述第一显示区的透光层和设置于所述第二显示区的黑矩阵层,所述透光层允许部分光线穿过;所述透光层具有透光层开口,且所述透光层开口设置有与所述第一发光单元对应的第一色阻单元;所述黑矩阵层具有黑矩阵开口,且所述黑矩阵开口设置有与所述第二发光单元对应的第二色阻单元。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述透光层包括第一灰度层,所述第一灰度层的透过率为20%-70%。

3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述彩膜层还包括:

透明平坦层,所述透明平坦层在所述第一显示区设置于所述第一灰度层与所述第一色阻单元之间,所述第一色阻单元设置于所述透明平坦层远离所述衬底基板的一侧;所述透明平坦层在所述第二显示区设置于所述黑矩阵层与所述第二色阻单元之间,所述第二色阻单元设置于所述透明平坦层远离所述衬底基板的一侧。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述彩膜层还包括:

凸型棱镜,设置于相邻两个所述第一色阻单元之间,所述凸型棱镜的边缘在所述第一色阻单元远离所述衬底基板的一侧形成斜坡面,且所述斜坡面与所述第一色阻单元远离所述衬底基板的一侧之间的夹角为锐角;

填充层,设置于所述凸型棱镜远离所述衬底基板的一侧,且所述填充层的折射率小于所述凸型棱镜的折射率。

5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述凸型棱镜的折射率小于所述透明平坦层的折射率。

6.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述凸型棱镜远离所述衬底基板的一侧包括与所述斜坡面连接的平面或弧面,且所述平面或弧面在所述衬底基板上的正投影与所述第一色阻单元远离所述衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影不交叠。

7.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述彩膜层还包括:

第二灰度层,设置于所述黑矩阵层远离所述衬底基板的一侧,且所述黑矩阵层在所述衬底基板上的正投影位于所述第二灰度层在所述衬底基板上的正投影内;

所述第一灰度层的折射率小于所述透明平坦层的折射率,所述第二灰度层的折射率小于所述透明平坦层的折射率。

8.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述彩膜层还包括:

第三灰度层,设置于所述黑矩阵开口中,所述第三灰度层的透过率为20%-70%,且至少部分所述第二发光单元在所述衬底基板上的正投影与所述第三灰度层在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠。

9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,所述至少部分所述第二发光单元包括绿色子像素发光单元。

10.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述透光层包括:

第一黑矩阵单元,围绕所述第一色阻单元设置,且相邻所述第一黑矩阵单元之间形成透光区。

11.根据权利要求10所述的显示装置,其特征在于,还包括设置于所述像素电路之间且位于所述透光区的金属走线;所述透光层还包括:

第二黑矩阵单元,设置于所述透光区,且所述第二黑矩阵单元在所述衬底基板上的正投影与所述金属走线在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111156257.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top