[发明专利]树脂、树脂组合物及利用上述材料的显示装置

权利要求书

1.一种包括下述化学式(1)所示的重复单元的树脂：

化学式(1)

在所述化学式(1)中，

1)*表示以重复单元连接化学键的部分；

2)R¹及R²相互独立地为氢；重氢；卤素；C₆～C₃₀的芳基；包含O、N、S、Si及P中的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C6～C30的脂环和芳环的稠环基；C₁～C₂₀的烷基；C₂～C₂₀的烯基；C₂～C₂₀的炔基；C₁～C₂₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳氧基；芴基；羰基；醚基；或C1～C20的烷氧羰基；

3)R¹及R²可各形成相邻的基和环；

4)a及b相互独立地为0～4的整数；

5)X¹为单键、O、CO、SO₂、CR’R”、SiR’R”、化学式(A)或化学式(B)；

6)X²为C₆～C₃₀的芳基；包含O、N、S、Si及P中的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C6～C30的脂环和芳环的稠环基；C₁～C₂₀的烷基；C₂～C₂₀的烯基；C₂～C₂₀的炔基；C₁～C₂₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳氧基；或其组合；

7)R’及R”相互独立地为氢；重氢；卤素；C₆～C₃₀的芳基；包含O、N、S、Si及P中的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C6～C30的脂环和芳环的稠环基；C₁～C₂₀的烷基；C₂～C₂₀的烯基；C₂～C₂₀的炔基；C₁～C₂₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳氧基；芴基；羰基；醚基；或C1～C20的烷氧羰基；

8)R’及R”可各形成相邻的基和环；

9)A¹及A²相互独立地为化学式(C)或化学式(D)；

10)在包括以化学式(1)表示的重复单元的树脂的高分子链内，化学式(C)和化学式(D)的比率满足1:9至9:1；

化学式(A)

化学式(B)

在所述化学式(A)及化学式(B)中，

11-1)*表示化学键位置；

11-2)X₃为O、S、SO₂或NR’；

11-3)R’为氢；重氢；卤素；C₆～C₃₀的芳基；包含O、N、S、Si及P中的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C6～C30的脂环和芳环的稠环基；C₁～C₂₀的烷基；C₂～C₂₀的烯基；C₂～C₂₀的炔基；C₁～C₂₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳氧基；芴基；羰基；醚基；或C1～C20的烷氧羰基；

11-4)R³～R⁶相互独立地为氢；重氢；卤素；C₆～C₃₀的芳基；包含O、N、S、Si及P中的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C6～C30的脂环和芳环的稠环基；C₁～C₂₀的烷基；C₂～C₂₀的烯基；C₂～C₂₀的炔基；C₁～C₂₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳氧基；芴基；羰基；醚基；或C1～C20的烷氧羰基；

11-5)R³～R⁶可各形成相邻的基和环；

11)c～f相互独立地为0～4的整数；

化学式(C)

化学式(D)

在所述化学式(C)及化学式(D)中，

12-1)*表示化学键位置；

12-2)R⁷～R¹⁰相互独立地为氢；重氢；卤素；C₆～C₃₀的芳基；包含O、N、S、Si及P中的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C6～C30的脂环和芳环的稠环基；C₁～C₂₀的烷基；C₂～C₂₀的烯基；C₂～C₂₀的炔基；C₁～C₂₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳氧基；芴基；羰基；醚基；或C1～C20的烷氧羰基；

12-3)Y¹及Y²相互独立地为化学式(E)或化学式(F)；

化学式(E)

化学式(F)

在所述化学式(E)及化学式(F)中，

13-1)*表示化学键位置；

13-2)R¹¹～R¹⁵相互独立地为氢；重氢；卤素；C₆～C₃₀的芳基；包含O、N、S、Si及P中的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C6～C30的脂环和芳环的稠环基；C₁～C₂₀的烷基；C₂～C₂₀的烯基；C₂～C₂₀的炔基；C₁～C₂₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳氧基；芴基；羰基；醚基；或C1～C20的烷氧羰基；

13-3)L1～L3相互独立地为单键、C1～C30的亚烃基、C6～C30的亚芳基或C2～C30的杂环；

13-4)g及h相互独立地为0～3的整数；但g+h＝3；

14)所述R¹～R¹⁵、R’、R”、X¹～X²及L¹～L³及相邻的基相互结合形成的环还可被选自各由重氢；卤素；用C1～C30的烷基或C6～C30的芳基取代或未取代的硅烷基；硅氧烷基；硼基；锗基；氰基；氨基；硝基；C₁～C₃₀的烷硫基；C₁～C₃₀的烷氧基；C₆～C₃₀的芳基烷氧基；C₁～C₃₀的烷基；C₂～C₃₀的烯基；C₂～C₃₀的炔基；C₆～C₃₀的芳基；用重氢取代的C6～C30的芳基；芴基；包含选自由O、N、S、Si及P构成的组中选择的至少一种杂原子的C2～C30的杂环基；C₃～C₃₀的脂环基；C₇～C₃₀的芳基烷基；C₈～C₃₀的芳基烯基；及其组合构成组的一个以上的取代基取代，而相邻的取代基之间可形成环。