[发明专利]一种低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜及其制备方法、应用

权利要求书

1.一种低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜，其特征在于，其合成原料包括：二酐单体、胺单体，其中，胺单体包含：三聚氰胺和4,4'-二氨基-2,2'-联吡啶；

胺单体还包含以下物质中的至少一种：4，4'-二氨基二苯醚、3，4'-二氨基二苯醚、4，4'-二氨基二苯砜、3，3'-二氨基二苯砜、2，2'-双(三氟甲基)-4，4'-二氨基联苯、α，α'-双(4-氨基苯基)-1，4-二异丙基苯、1,4-双(2-三氟甲基4-氨基苯氧基)苯、1,3-双(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)苯、1，4-双(2-甲基-4-氨基苯氧基)苯、1，3-双(2-甲基-4-氨基苯氧基)苯、4，4'-双(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)联苯、4，4'-双(2-甲基-4-氨基苯氧基)联苯、2,2’-双[4-(4-氨基苯氧基苯基)]丙烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2-双[4-(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[4-(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷和4，4’-双(4-氨基苯氧基)二苯砜；

三聚氰胺占胺单体总量的8-12mol％；

4,4'-二氨基-2,2'-联吡啶占胺单体总量的15-20mol％；

二酐单体为4，4'-(六氟异丙烯)二酞酸酐、4，4'-氧双邻苯二甲酸酐、1，2，3，4-环丁烷四羧酸二酐、1，2，3，4-环戊烷四羧酸二酐、1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2，3，5，6-四羧酸二酐中的至少一种。

2.根据权利要求1所述低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜，其特征在于，二酐单体、胺单体的摩尔比为1-1.05:1。

3.一种如权利要求1或2所述低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在惰性气体氛围中，取胺单体和二酐单体在有机溶剂中反应得到聚酰胺酸溶液，然后将聚酰胺酸溶液涂布在载体表面，亚胺化得到低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜。

4.一种如权利要求1或2所述低热膨胀系数聚酰亚胺薄膜作为光学膜的应用。