[发明专利]一种含螺环呋喃并咔唑结构的化合物及其应用

权利要求书

1.一种含螺环呋喃并咔唑结构的化合物，其特征在于，具有如通式(Ⅰ)所示的结构：

其中：

R₁～R₃各自独立地代表H、卤素、氨基、烷胺基、取代或未取代的C₁～C₂₀的链状烷烃基、取代或未取代的C₃～C₂₀的环烷烃基、取代或未取代的C₃～C₆₀的芳基胺基或杂芳基胺基、取代或未取代的C₃～C₆₀的芳基或杂芳基；R₁～R₃各自代表的基团可以相同，也可以不同；

m、n和p分别独立地选自1至4的整数；优选地，m、n和p分别独立地选自1或2；更优选地，m、n和p均为1；

R₄、R₅各自独立地代表H、卤素、氨基、取代或未取代的C₁～C₂₀的链状烷烃基、取代或未取代的C₃～C₂₀的环烷烃基、取代或未取代的C₃～C₆₀的芳基胺基或杂芳基胺基、取代或未取代的C₃～C₆₀的芳基或杂芳基；R₄、R₅各自代表的基团可以相同，也可以不同；

q、r分别独立地选自1至4的整数；优选地，q、r分别独立地选自1或2；更优选地，q、r均为1；

R₁～R₅代表的基团上存在取代基时，所述取代基分别独立地选自C₁～C₂₀的链状烷烃基、C₃～C₂₀的环烷烃基、C₁～C₁₀的烷氧基、C₁～C₁₀的硫代烷氧基、C₆～C₃₀的芳基氨基、C₃～C₃₀的杂芳基氨基、C₆～C₃₀的芳基和C₃～C₃₀的杂芳基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述取代或未取代的C₃～C₆₀的芳基胺基或杂芳基胺基为R₁～R₅中至少有一个基团为优选R₁～R₃中至少有一个基团为

所述Ar₁、Ar₂各自独立地代表含苯环、C₃～C₆的环烷烃环或芳杂环的基团，所述Ar₁、Ar₂可以相同，也可以不同；

所述Ar₁、Ar₂可以独立存在，也可以与相邻的苯环或杂环进行稠合，或者位置相邻的两个可以连接成环，或者通过成环；所述R、R′和R″各自独立地选自氢、C₁～C₈的烷基、C₅～C₁₀的环烷基、取代或未取代的C₆～C₃₀的芳基、取代或未取代的C₃～C₃₀的杂环芳基中的任一种。