[发明专利]一种高硬高强耐磨化合物涂层及其制备方法有效
申请号: | 202111161885.X | 申请日: | 2021-09-30 |
公开(公告)号: | CN113754444B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 王志新;马明星;张志汉;聂绍乾;姚培琳 | 申请(专利权)人: | 郑州启航精密科技有限公司 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/622 |
代理公司: | 郑州科硕专利代理事务所(普通合伙) 41157 | 代理人: | 李敬佩 |
地址: | 450000 河南省郑州市新郑市龙湖镇107*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高强 耐磨 化合物 涂层 及其 制备 方法 | ||
1. 一种高硬高强耐磨化合物涂层的制备方法,其特征在于所述化合物涂层为(AlxCeyCoCrNiOpTbqTiYmZr)N,其中0.1≤x≤1.3;0.1≤y≤1;0.1≤p≤0.5;0.1≤q≤1;0.1≤m≤1;0.01x/(x+y+m+p+q+5)0.25;0.01y/(x+y+m+p+q+5)0.20; 0.01p/(x+y+m+p+q+5)0.10;0.01q/(x+y+m+p+q+5)0.20;0.01m/(x+y+m+p+q+5) 0.20;且所述涂层所使用的靶材是FCC、HCP1和HCP2三相结构的AlxCeyCoCrNiOpTbqTiYmZr化合物,其中FCC为面心立方结构,其空间群为Fm-3m(225),点阵常数为1.111609nm;HCP1为密排六方结构,其空间群为P63/mmc(194),点阵常数为a=b=0.515846nm,c=0.831097nm;HCP2为密排六方结构,其空间群为P63/mmc(194),点阵常数为a=b=0.785922 nm,c=0.779709nm;且所述化合物涂层的制备方法包括以下步骤:
(1)按化合物靶材化学式AlxCeyCoCrNiOpTbqTiYmZr,其中0.1≤x≤1.3;0.1≤y≤1;0.1≤p≤0.5;0.1≤q≤1;0.1≤m≤1;0.01x/(x+y+m+p+q+5)0.25;0.01y/(x+y+m+p+q+5)0.20; 0.01p/(x+y+m+p+q+5)0.10;0.01q/(x+y+m+p+q+5)0.20;0.01m/(x+y+m+p+q+5) 0.20,分别称取所需的纯金属粉体和按氧元素比例加入适量的二氧化铈,并将原料粉体置于混料罐后在混料机中进行混料;
(2)将混料后的粉体在保护气体环境下装入石墨模具中,在真空高温炉内进行高温烧结成块;
(3)将步骤(2)中的块体置于感应挤压炉中,在保护气体环境下,进行感应加热至预设温度,再迅速将样品置于双向顶压模具内,进行挤压成型,得到AlxCeyCoCrNiOpTbqTiYmZr化合物块体靶材;
(4)将需要制备涂层的工件进行喷砂处理后装夹在镀膜设备腔体内部,抽真空至0.1Pa以下,加热炉体至炉内温度达到500℃,向炉内通入氮气使压力升至2.5Pa,开启AlxCeyCoCrNiOpTbqTiYmZr化合物靶材,在上述工件表层沉积并原位生成梯度的(AlxCeyCoCrNiOpTbqTiYmZr)N化合物镀层。
2.如权利要求1所述的高硬高强耐磨化合物涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中金属粉体的纯度高于99.5%,二氧化铈的纯度高于99.9%。
3.如权利要求1所述的高硬高强耐磨化合物涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中混料工艺为:时间为0.5h~12h,转速为30rpm~80rpm。
4.如权利要求1所述的高硬高强耐磨化合物涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)和步骤(3)中保护气体为氩气或氮气。
5.如权利要求1所述的高硬高强耐磨化合物涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中高温烧结工艺为:温度为1400℃~1800℃,保温时间2h~8h。
6.如权利要求1所述的高硬高强耐磨化合物涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中感应挤压工艺为:感应加热预设温度为900℃~1100℃,挤压压力为30MPa~40MPa。
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