[发明专利]一种工程地质勘察水质分析系统在审
申请号: | 202111162161.7 | 申请日: | 2021-09-30 |
公开(公告)号: | CN114002400A | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 卢莹;夏鹏 | 申请(专利权)人: | 卢莹 |
主分类号: | G01N33/18 | 分类号: | G01N33/18;G01N1/10;G01D21/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 404100 重庆市万州*** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工程地质 勘察 水质 分析 系统 | ||
本发明涉及地质水质分析领域,具体说是一种工程地质勘察水质分析系统,包括测量机构、装载机构、防脱机构和采样机构;单向瓶塞能够有效防止采样瓶中的水样泄露,确保水样检测数据的准确度和可靠性,同时能够实现不同层流和深度的水样采集;采样瓶安装在装样槽中时,单向瓶塞中点正上方即为顶压细杆;驱动转板每次转动三十度,通过转板下端的压栓与复位弹簧的相互作用,驱动梯形压板的下压和复位,从而控制单向瓶塞的开启和封闭,进而实现采样瓶采样和密封的远程控制;通过联动转杆实现滑杆与推杆反向的平移,通过转动支杆对活动挡板的限位,实现活动挡板的转动,从而将采样瓶稳定安装在装样槽中,防止采样瓶脱离。
技术领域
本发明涉及地质水质分析领域,具体说是一种工程地质勘察水质分析系统。
背景技术
地下水质环境监测,按照一定的时间间隔和技术要求,开展地下水的水位、水温、水量和水质等要素随时间变化的监测,以反映地下水环境的动态变化过程;为保护地下水环境,保证工程质量,在进行工程建设之前,通常需要对工程区域地下水进行水质环境监测。
现有的地下水监测分析装置在水质采样时,容易出现混流采样、水样污染的问题,无法有效的针对不同深度和流层的水流进行有效的分隔采样,导致水质分析结果不准确,无法达到实际要求的标准,造成很多的麻烦。
发明内容
针对现有技术中的问题,本发明提供了一种工程地质勘察水质分析系统。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种工程地质勘察水质分析系统,包括测量机构、装载机构、防脱机构和采样机构;所述装载机构活动安装在所述测量机构下端,所述防脱机构安装在所述装载机构下端,所述采样机构活动安装在所述装载机构和所述防脱机构之间;所述测量机构包括操作箱,所述操作箱上方设置有操作台,所述操作箱内部上方设置有一个驱动腔,所述驱动腔顶板设置一个读数滑槽,所述驱动腔一侧设置一个安装台,所述驱动腔另一侧设置一个支撑架,所述驱动腔下端设置一个收纳腔,所述操作箱下端两侧对称设置两个脚架。
具体的,所述安装台上安装一个第一电机,所述第一电机前端固定连接一根驱动轴,所述驱动轴另一端贯穿所述支撑架;所述驱动轴中间同轴安装一个绳盘,所述绳盘上绕有钢索;所述驱动轴末端设置一个驱动齿轮,所述驱动齿轮外侧设置一个内齿读数盘,所述内齿读数盘安装在所述驱动腔内侧壁上,所述内齿读数盘内圈与所述驱动齿轮啮合,所述内齿读数盘外圈设置有刻度;所述内齿读数盘上端延伸到所述操作箱上表面外;所述内齿读数盘面对所述第一电机的一侧设置一个拨动栓,所述拨动栓位于所述读数滑槽正下端,所述读数滑槽中安装一个计数滑条,所述计数滑条下端等间隔设置若干被动挡栓,所述计数滑条上表面依次设置若干与所述被动挡栓对应的计数数字,所述读数滑槽中点上侧设置一个显示窗,所述显示窗可以显示所述计数滑条上的其中一个数字。
具体的,所述装载机构包括承接块,所述承接块中间设置一个圆柱形的转槽,所述转槽上端安装一个驱动电机,所述驱动电机的转轴上固定连接一个转板,所述转板套接在所述转槽内,所述转板下侧面边缘处垂直设置一根压栓,所述转板下侧面中间设置一根支撑杆,所述支撑杆活动安装在所述承接块中;所述转槽侧壁上等间隔设置六个限位壁槽,所述转槽下方设置六个与所述限位壁槽相对应的限位滑槽,所述限位滑槽中安装一个复位弹簧。
具体的,所述转板下方等间隔安装六个围成一周的梯形压板,所述梯形压板一端位于所述转槽中,所述梯形压板另一端穿过所述限位壁槽延伸到所述承接块外侧,所述梯形压板位于所述转槽中的一端下方垂直设置一根限位滑杆,所述限位滑杆下端设置一个圆压板,所述限位滑杆插接在所述限位滑槽中,所述圆压板与所述复位弹簧上端相抵触;所述梯形压板位于所述承接块外侧的一端下方垂直设置一个顶压细杆。
具体的,所述承接块下端设置一圈载样环板,所述载样环板上等间隔设置六个装样槽,所述装样槽位置与所述限位壁槽位置相对应,所述装样槽下端两侧对称设置两个活动槽,所述活动槽位于所述装样槽靠近所述承接块的一侧,所述装样槽下端背离所述活动槽的一侧设置一个转动槽,所述活动槽与所述转动槽之间设置一个联动通道。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卢莹,未经卢莹许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111162161.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。