[发明专利]一种无机化合物晶体及其制备方法和作为非线性光学晶体的应用有效
申请号: | 202111166654.8 | 申请日: | 2021-10-01 |
公开(公告)号: | CN114232099B | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 裴绍敏;郭国聪;刘彬文;姜小明;徐忠宁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | C30B29/46 | 分类号: | C30B29/46;C30B1/02;C30B1/10;G02F1/355 |
代理公司: | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人: | 毛薇 |
地址: | 350002 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 无机化合物 晶体 及其 制备 方法 作为 非线性 光学 应用 | ||
1.一种无机化合物晶体,其特征在于,所述晶体的化学式为[K3Cl][MnGa6S12]。
2.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体具有[Mn2Ga6S12]2–三维阴离子框架结构,由三个GaS4组成的[Ga3S9]三聚体,与MnS6八面体中的S原子连接形成[MnGa3S6]–一维链,其中6条链通过Ga-S键连接围绕形成一个内径为8.9~9.0Å的纳米隧道;[K6Cl]5+通过面面链接形成沿
3.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体为非中心对称结构,属于三方晶系,空间群为
4.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体的晶胞参数为
5.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体的晶胞参数为
6.根据权利要求1所述无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体在入射激光为1910 nm时非线性强度为AgGaS2的0.7~1倍;光学带隙为3.1~3.2eV;在入射激光为1064nm时激光损伤阈值为AgGaS2的12~13倍。
7.一种权利要求1~6中任意一项所述的无机化合物晶体的制备方法,其特征在于,采用高温固相法制备,包括以下步骤:
将含有镧源、锰源、镓源、硫源和氯化钾的原料混合后,于850~950 ℃的晶化温度条件下晶化72~120 h,得到所述无机化合物晶体。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述镧源选自镧单质;所述锰源选自锰单质;所述镓源选自镓单质;所述硫源选自硫单质。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述镧单质、锰单质、镓单质、硫单质为粉末状。
10.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述原料中镧、锰、镓、硫和氯化钾的摩尔比为1~1.5:0.4~0.6:1.4~1.6:3.3~3.6:2.2~2.5。
11.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述原料中镧、锰、镓、硫和氯化钾的摩尔比为1.16:0.48:1.43:3.35:2.28。
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