[发明专利]一种含过渡金属的无机非线性光学晶体的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111166980.9 申请日: 2021-10-01
公开(公告)号: CN114232100B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 裴绍敏;郭国聪;刘彬文;姜小明;徐忠宁 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B1/10;G02F1/355
代理公司: 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 代理人: 毛薇
地址: 350002 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 过渡 金属 无机 非线性 光学 晶体 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体的化学式为[K4Cl][MGa9Q16];

其中,M选自Cd、Mn或Fe中的一种;

当M为Cd时,Q选自S或Se;

当M为Mn或Fe时,Q为S。

2.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体具有由MQ4四面体及GaQ4四面体共顶点连接成[MGa9Q16]3–三维阴离子框架结构,[K4Cl]3+阳离子基团独立地填充在阴离子框架的间隙中,使化合物满足电荷平衡。

3.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体为非中心对称结构,属于三斜晶系,空间群为P1。

4.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体的晶胞参数为a = 8.37~8.78 Å,b = 9.78~10.30 Å,c = 9.8~10.32 Å,α= 68.21~68.76°,β =74.74~74.92°,γ = 84.93~85.32°,V = 723.64~836.01,Z = 1。

5.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体的晶胞参数为a = 8.3709(3)~8.7720(3) Å,b = 9.7849(6)~10.2955(3) Å,c = 9.8262(6)~10.3146(3) Å,α = 68.215(2)~68.758(5)°,β= 74.741(5)~74.920(3)°,γ = 84.930(2)~85.311(4)°,V = 723.64(8)~836.01(5),Z = 1。

6.根据权利要求1所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体的分子式为[K4Cl][CdGa9S16];所述无机化合物晶体的晶胞参数为a = 8.432~8.433 Å,b = 9.880~9.881 Å,c = 9.900~9.901 Å,α = 68.21~68.22°,β = 74.88~74.89°,γ = 84.95~84.96°,V = 739.4~739.5,Z = 1。

7.根据权利要求6所述的无机化合物晶体,其特征在于,所述无机化合物晶体的晶胞参数为a = 8.4328(2)Å,b = 9.8807(2) Å,c = 9.9005(2) Å,α = 68.215(2)°,β = 74.887(2)°,γ = 84.956(2)°,V = 739.49(3),Z = 1。

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