[发明专利]一种PDLC调光膜及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 202111168377.4 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN115903299A 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 刘延宁;陈珂珩 申请(专利权)人: 苏州瑞纳新材料科技有限公司
主分类号: G02F1/1334 分类号: G02F1/1334;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/08
代理公司: 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 代理人: 毛洪梅
地址: 215000 江苏省苏州市苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 pdlc 调光 及其 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种PDLC调光膜,其特征在于,包括导电膜和聚合物分散液晶层,所述聚合物分散液晶层贴合在两个所述导电膜之间。

2.基于权利要求1所述的调光膜的制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:

S1.聚合物分散液晶浆料的制备:将PUA、LMA、LC、TPO、光稳定剂以及SiO2原料混合并搅拌均匀:

S2.导电膜制备:利用真空多功能磁控溅射镀膜仪制备出GZO/Ag/GZO导电膜,其中,采用的是射频电源溅射金属Ag靶和采用脉冲电源溅射GZO靶;

S3.调光膜的制备:将成卷的导电膜分别上至两个发料辊,通过相应的传输介辊,被动的送入缓慢转动的压印辊中,同时液晶管住系统开启,将聚合物分散液晶浆料输入至两个导电膜之间,再通过压印辊压合,压合之后的调光膜经紫外光进行固化。

3.根据权利要求2所述的调光膜的制备工艺,其特征在于,其中,紫外光光照时间1至5min,PUA:LMA的质量比为1:1至2.3:1。

4.根据权利要求2所述的调光膜的制备工艺,其特征在于,其中,真空多功能磁控溅射镀膜仪的溅射功率为20至80W。

5.根据权利要求2所述的调光膜的制备工艺,其特征在于,其中,搅拌时的搅拌温度均为20~40℃,搅拌时间均为30~35min。

6.根据权利要求2所述的调光膜的制备工艺,其特征在于,其中,SiO2粉末的粒径为10至20微米。

7.根据权利要求2所述的调光膜的制备工艺,其特征在于,其中,光稳定剂由两种或两种以上的对紫外线具有不同的吸收波段的光稳定物质复配形成。

8.根据权利要求7所述的一种液晶调光膜的制备方法,其特征在于,所述光稳定物质为二苯甲酮类光稳定物质、苯并三唑类光稳定物质或受阻胺类光稳定物质。

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